发明名称 An improved substrate holder for plasma processing
摘要
申请公布号 AU2003228226(A8) 申请公布日期 2003.09.29
申请号 AU20030228226 申请日期 2003.03.11
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 LEE CHEN
分类号 H05H1/46;C23C16/00;H01J37/20;H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/683;H01L21/687;(IPC1-7):C23C16/00;H05H1/02;H01L21/302 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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