| 主权项 |
1.一种超浓度控制系统,系用于一吸收式机器,该机器使用一操作液体,该操作液体包含一将离子溶质溶解于一冷冻溶剂之溶液,该操作液体特征在具有一溶解于该溶剂内之该溶质量之浓度指示;及一相位图,具有一结晶边界,其定义对应于该溶液中饱和情况之浓度及温度之组合,该超浓度控制系统包括:储存于一记忆体之装置,储存该机器之吸收循环之一图示相位图,该图示相位图包括由浓度及温度预定之多数个别组合,包含位在结晶边界上之浓度及温度;因应于机器中预定位置之该溶液浓度用以持续地产生该液体浓度之一浓度信号指示之装置;一温度感测器,用以产生该液体温度之一温度信号指示;用以比较该液体之测得浓度及温度与位在该结晶边界上之浓度及温度,及用以产生一差値信号;及因应该差値信号之大小用以按照需要改变该机器之操作状态之装置,用以防止该液体到达位在该结晶边界上浓度及温度之一组合。2.根据申请专利范围第1项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括一容量控制阀,用以控制热输入至该吸收式机器。3.根据申请专利范围第2项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以抑制该容量控制阀开启之装置。4.根据申请专利范围第2项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以关闭该容量控制阀之装置。5.根据申请专利范围第2项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以关闭该机器及进入一稀释循环之装置。6.根据申请专利范围第1项之超浓度控制系统,其中该操作液体包含一于水中之溴化锂溶液。7.根据申请专利范围第1项之超浓度控制系统,其中该浓度信号产生装置包含一类比式开关,该开关包含一浮筒装置。8.根据申请专利范围第1项之超浓度控制系统,其中该浓度信号产生装置系持续地运作。9.一种超浓度控制系统,系用于一吸收式机器,该机器使用一溴化锂水溶液作为操作液体,该操作液体特征在具有一溴化锂于水中之浓度;及一相位图,具有一结晶边界,其定义对应一于该溶液中饱和情况之溴化锂浓度及温度之组合,该超浓度控制系统包括:储存于一记忆体之装置,储存该机器之吸收循环之一图示相位图,该图示相位图包括由浓度及温度预定之多数个别组合,包含位在结晶边界上之浓度及温度;因应于机器中预定位置之该溶液浓度用以持续地产生该液体溴化锂浓度之一浓度信号指示之装置;一温度感测器,用以产生该液体温度之一温度信号指示;用以比较该液体之测得浓度及温度与位在该结晶边界上之浓度及温度,及用以产生一差値信号;及因应该差値信号之大小用以按照需要改变该机器之操作状态之装置,用以防止该液体到达位在该结晶边界上浓度及温度之一组合。10.根据申请专利范围第9项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括一容量控制阀,用以控制热输入至该吸收式机器。11.根据申请专利范围第10项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以抑制该容量控制阀开启之装置。12.根据申请专利范围第10项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以关闭该容量控制阀之装置。13.根据申请专利范围第10项之超浓度控制系统,其中该用以改变操作状态之装置包括用以关闭该机器及进入一稀释循环之装置。14.根据申请专利范围第9项之超浓度控制系统,其中该浓度信号产生装置包含一类比式开关,该开关包含一浮筒装置。15.根据申请专利范围第9项之超浓度控制系统,其中该浓度信号产生装置系持续地运作。图式简单说明:第一图a系一适用于本发明,一类比式液面开关机构之图解实例。第一图b系一开关及电阻之图解实例,该开关及电阻位在显示于第一图a中开关之支撑轴上,圆圈所例举之切断剖面处。第二图系一溴化锂于水中之图解图表,具有一包含结晶线典型冷却装置溶液循环之一绘图。第三图系一例举流经一双效冷却装置一具体实例之图解实例。第四图表示溴化锂于水中之平衡图表。 |
