| 主权项 |
1.一种在化学-机械抛光过程中供应化学品之系统,此系统之特征包括a)彼此连接的储存及处理槽,且其中如果需要时可配备搅拌器或其他装置供均匀混合,且如果需要时可施加压力,b)配备阀之导管,其系以下降的方式放置,且如果需要时可施加压力,c)如果需要时,适合高纯度化学品之压缩空气供应,及d)如果需要时,供应高纯度水之系统。2.如申请专利范围第1项之供应系统,其特征是输送含固体介质之导管配备静态混合机。3.如申请专利范围第1或2项之供应系统,其特征是以下降方式排列导管,使其可将化学品或其混合物在重力的作用下回送至储槽。4.如申请专利范围第1或2项之供应系统,其特征是可经由压缩空气将化学品或其混合物回送至储槽。5.如申请专利范围第1或2项之供应系统,其特征是操作过程中可施加压力以避免污染。6.如申请专利范围第5项之供应系统,其特征是在稍高于大气压力0.3至5巴下操作。7.如申请专利范围第1或2项之供应系统,其特征是与使用的化学品接触之全部系统组件都是用同时对强酸及强硷性氧化介质无反应性之物质制成,所以可防止粒子之磨损或溶解而污染化学品。8.如申请专利范围第7项之供应系统,其特征是与使用的化学品接触之全部系统组件都是从抗化学品且选自包括全氟化或部份氟化或非氟化聚合烃类之物质制成。9.如申请专利范围第1或2项之供应系统,用于制备悬浮液供化学一机械抛光使用。10.如申请专利范围第1或2项之供应系统,在使用点直接供应悬浮液供化学一机械抛光使用。11.如申请专利范围第1或2项之供应系统,用于制备悬浮液供生产晶片或半导体电路所需的化学-机械抛光使用。12.一种如申请专利范围第1至8项中任一项供应系统之操作方法,其特征是a)从一或多个中间容器取出一或多个计量的固体,b)经由添加一或多种液体,混合而转化成糊浆或液体形式,及c)添加至一或多个储槽或处理槽,其中如果需要时,可先放置在操作中所需的其他化学品。图式简单说明:第一图根据本发明之供应控制系统图 |
