发明名称 |
光刻编程集成电路 |
摘要 |
本发明提出一光刻编程集成电路(LPIC)。制造LPIC的核心设备是开口可编程掩模版(OPM)。OPM掩模版一般含有开口定义层和光调制层。光调制层中的光调制元可以使用液晶或MEMS结构。OPM掩模版可以根据设置数据来控制LPIC中通道孔和金属线缺口的有无。LPIC与现有技术相比,尤其在中小批量生产时,具有较低成本、较短生产周期并给用户提供极大的设计自由度。 |
申请公布号 |
CN1444266A |
申请公布日期 |
2003.09.24 |
申请号 |
CN02106379.6 |
申请日期 |
2002.03.04 |
申请人 |
张国飙 |
发明人 |
张国飙 |
分类号 |
H01L21/82;H01L27/00;G03F7/00 |
主分类号 |
H01L21/82 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.一光刻编程集成电路(LPIC)族,其特征在于含有:第一LPIC产品,该第一LPIC产品具有第一整体收入期望值,并含有至少一层第一薄膜;第二LPIC产品,该第二LPIC产品具有第二整体收入期望值,并含有第二薄膜,该第二薄膜与第一薄膜对应但具有不同图形;形成该第一和第二薄膜图形的常规掩模版有一掩模版市价,该掩模版市价大于第一和第二整体收入期望值中的较小值。 |
地址 |
610051四川省成都市跳蹬河邮局001信箱 |