| 发明名称 | 具有直立室的等离子体聚合连续处理设备 | ||
| 摘要 | 具有多个室的等离子体聚合连续处理设备，对移动进入室的物质表面通过等离子体聚合进行表面处理，包括至少一个直立室，其中物质垂直移动，及其中包括至少一个电极。由于直立室可由单独或多个室形成，或可与卧式室一起形成，因此可以建造各种类型的等离子体聚合处理系统。另外，根据表面处理的目的，多个室可用于各种功能和应用例如聚合室、后处理室及预处理室。 | ||
| 申请公布号 | CN1444605A | 申请公布日期 | 2003.09.24 |
| 申请号 | CN01813566.8 | 申请日期 | 2001.05.30 |
| 申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 河三喆;郑永万;赵石济;尹东植 |
| 分类号 | C08F2/52;H01J37/32 | 主分类号 | C08F2/52 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王维玉;丁业平 |
| 主权项 | 1.等离子体聚合的连续处理设备，其具有多个室以利用等离子体聚合对移动进入室的物质表面进行表面处理，包括：至少一个直立室，其中物质垂直移动，及至少一个电极包括在其中。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||