发明名称 |
MATERIALES ANTIMICROBIANOS ESTABILIZADOS RESPECTO A LA LUZ |
摘要 |
Se describen métodos para incrementar la fotoestabilidad de plata en los materiales médicos. Más particularmente, los métodos para aumentar la fotoestabilizacion de plata en ciertas materiales que comprenden polímeros hidrofilos, anfoteros y anionicos por someter los polímeros a soluciones que contienen un solvente orgánico y plata, durante o después de lo cual se agregan uno o más agentes que facilitan la fotoestabilizacion del material.
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申请公布号 |
AR031439(A1) |
申请公布日期 |
2003.09.24 |
申请号 |
AR2001P105557 |
申请日期 |
2001.11.29 |
申请人 |
BRISTOL MYERS SQUIBB COMPANY |
发明人 |
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分类号 |
A61L2/16;A61K31/28;A61K31/74;A61K33/38;A61L15/16;A61L15/44;A61L26/00;A61L27/54;A61L29/16;A61L31/00;A61L31/16;(IPC1-7):A61K31/74;A61K9/70;A61F13/00 |
主分类号 |
A61L2/16 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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