发明名称 化学放大型正向阻剂组成物
摘要 本发明提供一种对于解析度、感光度以及溶解度等性能之平衡具有优异性,且特别适合用作为正向光阻剂之阻剂组成物,其包括具有脂环族内酯结构单位之树脂(该脂环族内脂结构单位本身不溶于硷,但于酸作用下变成可溶)、含有2-庚酮之溶剂以及酸产生剂,其中,该溶剂中2-庚酮之含量为约自5至约95重量%。
申请公布号 TW554255 申请公布日期 2003.09.21
申请号 TW091105409 申请日期 2002.03.21
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 高田佳幸;森马洋
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路八十号六楼
主权项 1.一种阻剂组成物,包括具有脂环族内酯结构单位之树脂(该脂环族内酯结构单位本身不溶于硷,但于酸作用下变成可溶)、含有2-庚酮之溶剂、以及酸产生剂,其中,该溶剂中2-庚酮之含量为约自5至约95重量%。2.如申请专利范围第1项之阻剂组成物,其中该脂环族内酯结构单位系选自下式(Ia)及(Ib)所示之聚合单位所构成之组群:其中,R1.R2.R3及R4分别独立地表示氢或甲基,n表示1至3之整数,其条件为当R2或R4为二或二以上时,其可为彼此相同或相异。3.如申请专利范围第1项之阻剂组成物,其中该树脂更进一步具有在硷性介质中藉由酸之相互作用使基团局部断裂而导致其变成硷可溶之聚合单位。4.如申请专利范围第3项之阻剂组成物,其中该脂环族内酯结构单位对硷性介质中藉由相互作用使基团局部断裂而变成硷可溶之聚合单位的比例为约90至20重量%:10至80重量%。5.如申请专利范围第1项之阻剂组成物,其中该酸产生剂为藉由施加辐射即可使其分解而产生酸之物质。6.如申请专利范围第1项之阻剂组成物,该组成物复包括胺。
地址 日本