| 主权项 |
1.一种正型光化射线可固化乾膜,其在非光化射线可固化基质之表面上具有固态正型光化射线可固化胺基甲酸酯树脂层,此层由以下形成:(1)含有以下作为重要成份之树脂组成物:(A1)含醚键联烯烃不饱和化合物,(B1)具有1,000至200,000之重量平均分子量及每公斤树脂为0.5至10当量范围之酸基含量之含酸基胺基甲酸酯树脂,及(C)光-酸产生剂;(2)含有以下作为重要成份之树脂组成物:(A2)含醚键联聚胺基甲酸酯为主之烯烃不饱和化合物,(B2)至少一种选自包括以下之树脂:(a)含羧基与羟苯基聚合物,(b)含羧基聚合物,及(c)含羟苯基聚合物,及(C)光-酸产生剂;或(3)含有以下作为重要成份之树脂组成物:(A2)含醚键联聚胺基甲酸酯为主之烯烃不饱和化合物,(B1)具有1,000至200,000之重量平均分子量及每公斤树脂为0.5至10当量范围之酸基含量之含酸基胺基甲酸酯树脂,及(C)光-酸产生剂。2.如申请专利申请范围第1项之乾膜,其中含羧基与羟苯基聚合物(a)具有1,000至200,000之重量平均分子量、每公斤聚合物为0.5至10当量范围之羧基含量、及每公斤聚合物为1.0至10当量范围之羟苯基含量。3.如申请专利申请范围第1项之乾膜,其中含羧基聚合物(b)具有1,000至200,000范围之重量平均分子量、每公斤聚合物为0.5至10当量范围之羧基含量。4.如申请专利申请范围第1项之乾膜,其中含羟苯基聚合物(c)具有1,000至200,000范围之重量平均分子量、及每公斤聚合物为1.0至10当量范围之羟苯基含量。5.一种形成图案之方法,其包括以下之步骤:(1)如申请专利申请范围第1项之正型光化射线可固化乾膜应用于涂层基质表面上,使得涂层基质表面面对乾膜之胺基甲酸酯树脂层,(2)视情况地剥除乾膜之非光化射线可固化基质,(3)经光罩或直接将光化射线照射在乾膜表面上以得到意图图案,视情况地热处理,(4)剥除在以上步骤(2)中未剥除之非光化射线可固化基质,(5)使正型光化射线可固化胺基甲酸酯树脂层接受显影处理,及(6)去除胺基甲酸酯树脂层之不必要区域以形成光阻图案膜,步骤(1)或(2)包括热处理之步骤。 |
