| 发明名称 |
Photoresistzusammensetzung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69809633(T2) |
申请公布日期 |
2003.09.18 |
| 申请号 |
DE19986009633T |
申请日期 |
1998.05.22 |
| 申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
YAKO, YUKO |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004;G03F7/09 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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