| 摘要 |
本发明系关于一种投影曝光装置，其用于用配置于一投影物之一物件表面之区域中的一光罩之一图案之至少一影像，对配置于该投影物之一影像表面之区域中的一辐射敏感基板进行曝光，该投影曝光装置具有：一光源，其用于发射来自一波长带的紫外光，该波长带具有在一操作波长λ＞200 nm周围的一频宽△λ＞10 pm；一照明系统，其用于接收来自该光源之该光且用于使导引至该光罩之该图案上之照明辐射成形成形；及一投影物，其用于将该光罩之结构成像至一光敏感基板上。该投影物为一反射折射投影物，其具有：至少一凹面镜，该至少一凹面镜配置于该投影物之一光瞳表面之一区域中；及一负透镜群，该负透镜群具有直接邻接于该凹面镜而配置于一靠近该光瞳表面之区域中的至少一负透镜，其中成像之一边部光线高度(MRH)大于一主光线高度(CRH)。 |
