| 发明名称 |
蚀刻液以及使用此蚀刻液之电子元件之图案化导电层的制造方法 |
| 摘要 |
一种蚀刻液，可用以蚀刻含铜的复层结构。此蚀刻液是以过醋酸为蚀刻的主成分。蚀刻液中还包括过醋酸稳定剂、有机酸、无机酸、盐类以及水。过醋酸的含量为蚀刻液总重量的5至40wt％。过醋酸稳定剂的含量为5至15wt％。有机酸的含量为5至10 wt％。无机酸的含量为5至15wt％。盐类的含量为8至15wt％。 |
| 申请公布号 |
TW200813195 |
申请公布日期 |
2008.03.16 |
| 申请号 |
TW095132305 |
申请日期 |
2006.09.01 |
| 申请人 |
中国台湾台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司 CHUNGHWA PICTURE TUBES, LTD. 桃园县八德市大楠里和平路1127号;友达光电股份有限公司 AU OPTRONICS CORPORATION 新竹市新竹科学园区力行二路1号;广辉电子股份有限公司 QUANTA DISPLAY INC. 桃园县龟山乡华亚二路189号;瀚宇彩晶股份有限公司 HANNSTAR DISPLAY CORPORATION 台北市松山区民生东路3段115号5楼;奇美电子股份有限公司 CHI MEI OPTOELECTRONICS CORPORATION. 台南县新市乡台南科学园区奇业路1号;财团法人工业技术研究院 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCHINSTITUTE 新竹县竹东镇中兴路4段195号;统宝光电股份有限公司 TPO DISPLAYS CORP. 苗栗县竹南镇科学园区科中路12号 |
发明人 |
刘思呈;杨承慈;吴健为;梁硕玮 |
| 分类号 |
C09K13/06(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
C09K13/06(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;萧锡清 |
| 主权项 |
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| 地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号15馆282室 |
