液晶显示器装置及其制法

主权项

1.一种显示器装置，包含有：一基体，具有一第一区和一第二区，其中该第一区包括形成有一包括一作为一开关装置的薄膜电晶体的像素来产生影像的一像素区、及包围该像素区的一周边区，且该第二区具有连接至该像素来从外部把电气信号施加于该像素的一垫块；及一绝缘层，形成在该第一和该第二区上，其中该绝缘层具有形成在该第二区中以露出该垫块的一开口，且该绝缘层在该开口四周的一第二厚度小于该绝缘层在该周边区中的一第一厚度。2.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中该像素区设置于该基体之一中央部份，该周边区设置在该像素区四周，且该周边区包围该第二区。3.依据申请专利范围第2项之显示器装置，其中该垫块包含一闸极输入垫块和一资料输入垫块。4.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中该第二厚度系约0.3至约3.0μm。5.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中在该第二厚度和该第一厚度间之差值系约2.1至约2.4μm。6.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中在该像素区中的该绝缘层上形成一粗糙结构。7.依据申请专利范围第6项之显示器装置，其中在该像素区中的该绝缘层之厚度不大于该第二厚度。8.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中该绝缘层包含形成在该第一区中的一第一有机绝缘层、及形成在该第一和该第二区中的一第二有机绝缘层，其中该第二有机绝缘层包含形成在该像素区中的一粗糙结构和形成在该第二区中的一开口。9.依据申请专利范围第1项之显示器装置，其中该绝缘层包含：第一绝缘层图型，其具有形成在该像素区中的一第一绝缘层之反射电极图型、及覆盖该周边区的该第一绝缘层之周边图型；以及一第二绝缘层，其具有在该像素区中的一粗糙结构和露出该第二区中之垫块的一开口，其中该第二绝缘层覆盖该第一绝缘层图型，且该第二绝缘层从该第一区连续形成到该第二区。10.一种反射式液晶显示器装置，包含有：一第一基体，具有一第一区和一第二区，其中该第一区包括在该第一基体之一中央部份处形成有一包括作为开关装置的薄膜电晶体的像素来产生影像的一像素区、及包围该像素区的一周边区，且连接至该像素的一垫块形成在该第二区上用来从外部把电气信号施加于该像素；一第二基体，与该第一基体相对；一液晶层，形成于该等第一和第二基体间；一反射电极，形成在该第一基体之中央部份，该反射电极具有由相对高和相对低部份组成的一粗糙结构；及一有机绝缘层，形成于该第一基体和该反射电极间、且也形成在该等第一和第二区中，其中该有机绝缘层在该第一区之一中央部份处具有与该反射电极之该粗糙结构相同的一粗糙结构、且在该第二区中具有一开口来露出该垫块，该有机绝缘层在该开口四周的一第二厚度小于该有机绝缘层在该周边区中的一第一厚度。11.依据申请专利范围第10项之反射式液晶显示器装置，其中该粗糙结构包含具有相对大高度的多个突起及具有相对低高度的多个凹处。12.依据申请专利范围第10项之反射式液晶显示器装置，其中该第二厚度系约0.3至约3.0μm。13.依据申请专利范围第10项之反射式液晶显示器装置，其中在该第二厚度和该第一厚度间之差值系约2.1至约2.4μm。14.依据申请专利范围第10项之反射式液晶显示器装置，其中在该像素区中的该有机绝缘层之厚度不大于该第二厚度。15.一种用来制造显示器装置之方法，该方法包含下列步骤：在一基体之一第一区的一像素区中形成一像素，该第一区包括该像素区和围绕该像素区的一周边区，且在该基体之一第二区中形成一垫块来把一电气信号施加至该像素；在该第二区中形成具有一开口的一绝缘层以露出该垫块，且其中该绝缘层系形成在该第一区和该第二区中，且该绝缘层在该开口四周的一第二厚度小于该绝缘层在该第一区中的一第一厚度；及在该开口中和在形成于该第二区中之该开口四周的该绝缘层上形成一垫块电极。16.依据申请专利范围第15项之方法，其中该像素区设置于该基体之一中央部份，且该第二区设置在该基体之该周边区中。17.依据申请专利范围第16项之方法，其中该像素包含作为一开关装置的一薄膜电晶体，且该垫块包含用来把一电气信号施加至该开关装置的一闸极输入垫块和一资料输入垫块。18.依据申请专利范围第15项之方法，其更包含在该像素区中的该绝缘层上形成一反射电极、且在该第二区中的该垫块上形成一垫块电极。19.依据申请专利范围第18项之方法，其中该反射电极和该垫块电极系藉由在该绝缘层上涂覆由一反射金属组成的一金属层和藉由把该金属层图型化而同时形成。20.依据申请专利范围第15项之方法，其中用来形成该绝缘层的该步骤更包含下列步骤：在该基体上形成一第一绝缘层；选择性地去除在该第二区中的该第一绝缘层；在该第一区中和在该第二区中形成一第二绝缘层；及在该第二绝缘层中形成该开口。21.依据申请专利范围第20项之方法，其中该等第一和第二绝缘层系由有机光阻所组成。22.依据申请专利范围第20项之方法，其中用来去除在该第二区中的该第一绝缘层的该步骤更包含：在该第一绝缘层中形成用来连接该像素的一接触孔；在一第一光罩设置在该第一绝缘层上后使该第一绝缘层充分曝露于用来形成该接触孔之一曝光量以去除该第一绝缘层；及使该经曝光第一绝缘层显影。23.依据申请专利范围第20项之方法，其中用来在该第二绝缘层中形成该开口之该步骤更包含下列步骤：在一第二光罩设置在该第二绝缘层上后在该第二绝缘层上形成一粗糙结构；在用来形成该开口的该第二光罩设置在该第二绝缘层上后使该第二绝缘层曝露于与用来形成该粗糙结构之曝光量相同的一曝光量；及使该经曝光第二绝缘层显影。24.依据申请专利范围第15项之方法，其中用来形成该绝缘层的该步骤更包含：在该基体上形成一第一绝缘层；使该第一绝缘层图型化以在该像素区中形成一绝缘层图型且选择性地去除在该第二区中的该第一绝缘层；在该等第一和第二区中形成一第二绝缘层；及在该第二区中的该第二绝缘层中形成一开口。25.依据申请专利范围第24项之方法，其中用来把该第一绝缘层图型化的该步骤更包含：把一第一光罩设置在该第一绝缘层上来形成一粗糙结构和一接触孔；使该第一绝缘层充分曝露于用来形成该接触孔的一曝光量；及把该经曝光第一绝缘层显影。26.依据申请专利范围第25项之方法，其中用来形成该开口的该步骤系藉由把一第二光罩设置在该第二绝缘层上来形成该接触孔和该开口、使该第二绝缘层曝光并把该经曝光第二绝缘层显影而实施。27.依据申请专利范围第15项之方法，其中用来形成该绝缘层之该步骤更包含下列步骤：在该基体上形成一有机绝缘层；使该有机绝缘层主要曝露于一充分曝光量来去除该垫块上的该有机绝缘层；使该第二区中的该有机绝缘层部份地曝光；及藉由把该经曝光有机绝缘层显影而在该第二区中形成一开口、并部份地去除在该第二区中该开口四周的该有机绝缘层。28.依据申请专利范围第27项之方法，其中用来使该有机绝缘层主要地曝光之该步骤系藉由在一第一光罩设置在该有机绝缘层后使该有机绝缘层曝露于一充分曝光量来形成该开口和用来电气连接该像素的一接触孔而实施。29.依据申请专利范围第28项之方法，其中用来使该有机绝缘层部份地曝光之该步骤系藉由使该有机绝缘层和该第二区曝露于一透镜曝光量以在该有机绝缘层上形成一反射电极而实施。30.一种显示器装置，包含：一具有一第一区以及一第二区之基体，该第一区包括一形成有数个包括作为开关装置的薄膜电晶体的像素以产生一影像之像素区以及一包围该像素区之一第一周边区，该第二区包括一垫块区以及一包围该垫块区之第二周边区，以及一连接于被形成于该垫块区内之该等像素中之每一者以自外部施加一电气信号于该等像素中之每一者的垫块；以及一形成于该第一区以及该第二区中除该垫块区及该第二周边区外之一第一部份上之绝缘层，该绝缘层具有一形成于该第二周边区内以曝光该垫块之开孔。31.如申请专利范围第30项所述之显示器装置，其中，该垫块包含一闸极输入垫块以及一资料输入垫块。32.如申请专利范围第30项所述之显示器装置，更包含一以一预定厚度形成于该第二区中除该开孔外之一第二部份上之氮化矽层。33.一种用以制造显示器装置之方法，包含：形成一像素区于一基体之一第一区之一像素区内，该第一区包括该像素区以及一环绕该像素区之第一周边区，以及形成一用以自外部施加一电气信号至一第二区之一垫块区内之该像素之垫块，该第二区包括该垫块区以及一包围该垫块区之第二周边区；形成一绝缘层于形成有该像素以及该垫块之该基体；形成一开孔于该绝缘层以曝光该垫块之一第一部份并移除该绝缘层；以及形成一垫块电极于该开孔以遮盖该开孔。34.如申请专利范围第33项所述之用以制造显示器装置之方法，其中，用以形成该绝缘层之该步骤更包含：以一曝光量曝光该绝缘层以移除该第二区之该绝缘层；以及显影该曝光绝缘层以于该第二区形成一开孔并移除形成该第二区之一第二部份之该绝缘层，该第二部份系邻近于该开孔。35.如申请专利范围第33项所述之用以制造显示器装置之方法，更包含一以一预定厚度形成一氮化矽层于该第二区中除该开孔外之一第三部份之步骤。图式简单说明：第1A至1C图系用来显示传统液晶显示器装置之制造步骤的横截面图；第2图系用来显示连接至第1C图中的一垫块区之一外部装置的横截面图；第3图系用来说明根据本发明之第一实施例而制造一液晶显示器装置的方法之构造平面图；第4A至4G图系沿着第3图中A-A’线采用的构造横截面图，以说明根据本发明之第一实施例的一液晶显示器装置之制造步骤；第5A至5D图系用来说明根据本发明之第二实施例而制造一液晶显示器装置的方法之构造横截面图；及第6A至D图系用来说明根据本发明之第三实施例而形成一有机绝缘层的步骤之横截面图。