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发明名称
Aluminum hardmask for dielectric etch
摘要
An aluminum hardmask (106, 214) is used for etching a dielectric layer (102, 210). A fluorine-based etch is used that does not etch the aluminum hardmask (106, 210). The aluminum hardmask (106, 214) is then removed by CMP.
申请公布号
US6620727(B2)
申请公布日期
2003.09.16
申请号
US20010935450
申请日期
2001.08.23
申请人
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
发明人
BRENNAN KENNETH D.
分类号
H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/476;H01L21/44
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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