| 发明名称 |
Method of using high yielding spectra scatterometry measurements to control semiconductor manufacturing processes and systems for accomplishing same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002367742(A8) |
申请公布日期 |
2003.09.16 |
| 申请号 |
AU20020367742 |
申请日期 |
2002.12.17 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES , INC. |
发明人 |
STEVEN P. REEVES;KEVIN R. LENSING;HOMI E. NARIMAN;JAMES BROC STIRTON |
| 分类号 |
G01N21/47;G01N21/95;G01N21/956;H01L21/66;(IPC1-7):G01N21/956 |
主分类号 |
G01N21/47 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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