| 主权项 |
1.一种防止反射膜,系具有:透明基材;和至少较该透明基材之折射率高出0.05以上1.5以下的1层高折射率层;以及较该高折射率层之折射率低0.05以上2.0以下的低折射率层之防止反射膜;其中,在该高折射率层中系含有平均粒径0.3m以上20m以下之消光剂粒子,且薄膜浊度値在10%以下。2.如申请专利范围第1项之防止反射膜,其中该高折射率层厚度系在消光剂粒子之平均粒径的70%以上200%以下。3.如申请专利范围第1项之防止反射膜,其中该消光剂粒子中,突出于该高折射率层上的粒子数系5000个/mm2以上100000个/mm2以下。4.如申请专利范围第3项之防止反射膜,其中该消光剂粒子中,突出于该高折射率层上的粒子数系8000个/mm2以上40000个/mm2以下。5.如申请专利范围第1项之防止反射膜,其中相关消光剂粒子,依下式(I)所计算出表示粒径分布的S値系在1.5以下;式(I):S=[D(0.9)-D(0.1)]/D(0.5)上式(I)中,D(0.1)、D(0.5)及D(0.9)系依下述定义:D(0.1):体积换算粒径乘积値之10%値D(0.5):体积换算粒径乘积値之50%値D(0.9):体积换算粒径乘积値之90%値。6.如申请专利范围第5项之防止反射膜,其中表示该粒径分布的S値系1.1以下。7.如申请专利范围第6项之防止反射膜,其中该高折射率层厚度系在消光剂粒子之平均粒径的80%以上120%以下。8.如申请专利范围第1至7项中任一项之防止反射膜,其中该防止反射膜之涂敷有高折射率层与低折射率层之表面的平均表面粗糙度Ra系0.003m以上0.1m以下。9.如申请专利范围第1至7项中任一项之防止反射膜,其中该消光剂粒子的折射率系高折射率层折射率的0.05以内。10.如申请专利范围第1至7项中任一项之防止反射膜,其中该高折射率层折射率系1.6以上2.0以下。11.如申请专利范围第1至7项中任一项之防止反射膜,其中该高折射率层的内部浊度値系2%以下。12.如申请专利范围第1至7项中任一项之防止反射膜,其中该透明基板系由三乙醯纤维素所构成。13.一种偏光板,系至少单面上设有如申请专利范围第1项至12项中任一项之防止反射膜。14.一种映像显示装置,系在映像显示面上设置防止反射膜,而该防止反射膜系具有:透明基材、至少较该透明基材之折射率高出0.05以上的1层高折射率层、以及较该高折射率层之折射率低0.05以上的低折射率层;并在该高折射率层中,含有平均粒径0.3m以上20m以下之消光剂粒子,且薄膜浊度値在10%以下。图式简单说明:第1图系构成防止反射膜主要层的剖面模式图。第2图系反射率波长依存性测量结果、与表示干涉大小之干涉幅度的图。 |
