发明名称 光罩
摘要 一种可简化微影制程的光罩。此光罩具有由遮光金属薄膜所形成的遮光图型位于一透明基底上,其中该光罩复包括以钽为主成分的半透明图型,该含钽材料系选自矽化钽、氧化钽、氮化钽或该等混合物。
申请公布号 TW552465 申请公布日期 2003.09.11
申请号 TW090131810 申请日期 2001.12.21
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 野口贤次;本永稔明;中川博雄;森川泰考;横山寿文;富永贵司;木名濑良纪;藤川润二;高桥洋一
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路八十号六楼
主权项 1.一种光罩,该光罩系包括位于一透明基底上,由遮光金属薄膜所形成的遮光图型,其中该光罩进一步包括以钽为主成分的半透明图型,该含钽材料系选自矽化钽、氧化钽、氮化钽或该等混合物。2.如申请专利范围第1项之光罩,其中,在该半透明图型层与该遮光图型层之间设有一中间层。3.如申请专利范围第2项之光罩,其中,该中间层系由氧化矽所制成。图式简单说明:第1图系显示本发明之光罩的剖面图。第2图系显示利用本发明之光罩所形成的光阻图型。第3a图至第3c图的剖面图系显示制作本发明之光罩的步骤。第4a图至第4d图的剖面图系显示接续第3图中制作本发明之光罩的步骤。第5a图至第5c图显示利用本发明之光罩来实施图型转移的步骤。第6a图至第6c图系显示接续第5图中利用本发明之光罩来实施图型转移的步骤。
地址 日本