发明名称 硬涂膜
摘要 明提供一种硬涂膜,其层构造简单而铅笔硬度高(3H以上),且具有加工适应性,并且透射清晰度优异,适合作为各种显示装置、触控面板等之电子设备的构件。其系在透明基材薄膜的一面,使包含3~6官能单体和有机修饰矽石微粒的硬涂层形成材料硬化而成之具有厚度7~14μm的硬涂层,该硬涂层形成材料系以35~65质量%的比例含有有机修饰矽石微粒,作为在固形物中的无机成分,其特征为,(1)依照JIS B 0601-1994而测定之前述硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下,(2)依照JIS B 0601-1994测定之与前述透明基材薄膜的硬涂层相反侧的面的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.05μm,(3)针对5种狭缝(狭缝宽度:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm及2mm)依照JIS K 7374:2007而测定,以藉由透射法的像清晰度的合计值表示之透射像清晰度为450以上。
申请公布号 TWI534001 申请公布日期 2016.05.21
申请号 TW101128866 申请日期 2012.08.10
申请人 琳得科股份有限公司 发明人 本乡有记;江嶋由多加;那须健司
分类号 B32B27/00(2006.01);B32B27/20(2006.01);G02B1/10(2015.01);G06F3/041(2006.01) 主分类号 B32B27/00(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项 一种硬涂膜,其系在透明基材薄膜的一面具有厚度7~14μm的硬涂层,该硬涂层系通过使包含3~6官能单体和有机修饰矽石微粒的硬涂层形成材料硬化而成,该硬涂层形成材料中,系以35~65质量%的比例含有有机修饰矽石微粒作为在固形物中的无机成分,该硬涂膜之特征为(1)依照JIS B 0601-1994测定之前述硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为0.008μm以下,(2)依照JIS B 0601-1994测定之与前述透明基材薄膜的硬涂层相反侧的面的算术平均粗糙度Ra为0.01~0.05μm,(3)依照JIS K 7374:2007测定的针对5种狭缝(狭缝宽度:0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm)之藉由透射法的像清晰度之合计值所表示的透射像清晰度为450以上。
地址 日本