| 发明名称 | 高亮度空间相干X射线源 | ||
| 摘要 | 一种高亮度空间相干X射线源，包括处于一防辐射外壳内的X光光源和X射线空间相干增益腔，其特点是：所述的X光光源由电子束激发X光光源和毛细管X光聚焦透镜组成，毛细管X光聚焦透镜设置于电子束激发X光光源的出射窗口处；该X射线空间相干增益腔的入口处设有入射限孔光阑，该入射限孔光阑位于该毛细管X光透镜的后焦点处；该电子束激发X光光源、毛细管X光透镜、空间相干增益腔的入射限孔光阑和出射窗口同轴；该X射线空间相干增益腔的出射窗口的孔径D<SUB>出</SUB>大于入射限孔光阑的孔径D<SUB>入</SUB>；D<SUB>入</SUB>的选取范围是：1微米<D<SUB>入</SUB><30微米。本发明高亮度空间相干X射线源，具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN1441441A | 申请公布日期 | 2003.09.10 |
| 申请号 | CN03115809.9 | 申请日期 | 2003.03.14 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 韩申生;喻虹;高琛;罗震林 |
| 分类号 | G21G4/04 | 主分类号 | G21G4/04 |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1、一种高亮度空间相干X射线源，包括处于一防辐射外壳(4)内的X光光源(1)和X射线空间相干增益腔(2)，其特征在于：<1>所述的X光光源(1)由电子束激发X光光源(5)和毛细管X光聚焦透镜(6)组成，毛细管X光聚焦透镜(6)设置在电子束激发X光光源(5)的出射窗口(501)处；<2>所述X射线空间相干增益腔(2)的入口处设有入射限孔光阑(201)，该入射限孔光阑(201)位于毛细管X光透镜(6)的后焦点处；<3>所述的电子束激发X光光源(5)、毛细管X光透镜(6)、空间相干增益腔(2)的入射限孔光阑(201)和出射窗口(202)同轴；<4>所述X射线空间相干增益腔(2)的出射窗口(202)的孔径D出 大于入射限孔光阑(201)的孔径D入；<5>该入射限孔光阑(201)的通光孔径D入的选取范围为：1微米＜D入＜30微米。 | ||
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