发明名称 СПОСІБ РАДІАЦІЙНОЇ ОБРОБКИ ТРАНЗИСТОРНИХ СЕНСОРІВ ТЕМПЕРАТУРИ
摘要 Спосіб радіаційної обробки транзисторних сенсорів температури, при якому їх опромінюють, а потім термовідпалюють. Сенсори опромінюють Х-променями дозою 4000÷4250 Гр. Температурний відпал проводять при температурі 130÷135 °C упродовж 120±5 хв.
申请公布号 UA107956(U) 申请公布日期 2016.06.24
申请号 UA20150013115U 申请日期 2015.12.30
申请人 ЛЬВІВСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ІМЕНІ ІВАНА ФРАНКА 发明人 Павлик Богдан Васильович;Дідик Роман Іванович;Шикоряк Йосип Андрійович;Лис Роман Мирославович;Грипа Андрій Сергійович;Слободзян Дмитро Петрович;Кушлик Маркіян Олегович
分类号 H01L21/428;H01L31/115 主分类号 H01L21/428
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利