发明名称 LASER EXPOSURE DEVICE
摘要 본 발명은 레이저 광의 단면 형상을 확대하는 제1 플라이아이렌즈(2)와, 제1 플라이아이렌즈(2)의 레이저 광의 입사측에 배치되고 제1 플라이아이렌즈(2)의 각 집광 렌즈(2a)에 각각 입사하는 레이저 광에 위상 차를 생기게 하는 제1 위상 차 발생 수단(3)과, 제1 플라이아이렌즈(3)에서 조사된 레이저 광을 평행 광으로 하는 콘덴서 렌즈(4)와, 레이저 광에 의한 포토마스크의 조명 영역 내의 광 강도 분포를 균일하게 하는 제2 플라이아이렌즈(6)와, 제2 플라이아이렌즈(6)의 레이저 광의 입사측에 배치되고 제2 플라이아이렌즈(6)의 각 집광 렌즈(6a)에 각각 입사하는 레이저 광에 위상 차를 생기게 하는 제2 위상 차 발생 수단(7)을 구비한 것이다. 이에 따라, 플라이아이렌즈에 의하여 발생하는 레이저 광의 간섭 무늬를 평균화하는 동시에, 레이저 광의 조도 불균일을 저감시킨다.
申请公布号 KR101634329(B1) 申请公布日期 2016.07.08
申请号 KR20117016451 申请日期 2010.02.02
申请人 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 发明人 다나다 유지;이시이 다이수케;가지야마 고이치;미즈무라 미시노브;하타나카 마코토;마쓰이 고헤이;이케다 다케시
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址