| 发明名称 | 掩模基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种掩模基板包括具有参考标记的透明基板和形成在透明基板上的遮光膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1441461A | 申请公布日期 | 2003.09.10 |
| 申请号 | CN03105260.6 | 申请日期 | 2003.02.25 |
| 申请人 | 株式会社东芝;大日本印刷株式会社 | 发明人 | 伊藤正光 |
| 分类号 | H01L21/00;G03F1/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 于静;李峥 |
| 主权项 | 1.一种掩模基板，其特征在于包括：具有参考标记的透明基板；和在透明基板上的遮光膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||