发明名称 磁复制方法
摘要 本发明提供一种磁复制方法。由支撑台(5)支撑从属介质(2),配置磁场发生装置(50),使它与从属介质(2)的上表面(2b)相对,在从属介质(2)的表面与磁铁接近的状态下,在从属介质(2)上外加由该磁场发生装置(50)产生的初始直流磁场(Hin),进行该从属介质(2)的初始直流磁化,然后把从属介质(2)和主载体(3)、(4)收藏在固定器(10)中,在通过该固定器(10)使两者紧贴的状态下,通过固定器(10)把由磁场发生装置(11)产生的复制用磁场(Hdu)外加在从属介质(2)和主载体(3)、(4)上。高效地进行用于磁复制的对从属介质的初始直流磁场的外加和对从属介质和主载体的紧贴体的复制用磁场的外加。
申请公布号 CN1441408A 申请公布日期 2003.09.10
申请号 CN03106440.X 申请日期 2003.02.25
申请人 富士胶片株式会社 发明人 小松和则;青木理史
分类号 G11B5/86 主分类号 G11B5/86
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种磁复制方法,向在单面或双面具有磁性层的从属介质外加初始直流磁场,在磁道的一个方向初始磁化该从属介质的磁性层的磁化,在表面具有用于对所述从属介质的磁性层复制信息的图形状的磁性层的主载体和所述初始磁化的从属介质的所述磁性层紧贴的状态下,在与所述初始磁化的方向相反的方向外加复制用磁场,向所述从属介质的磁性层复制所述信息;其特征在于:所述初始直流磁场的外加是在配置了磁场发生装置,使从所述从属介质的一方的面支撑该从属介质,直接面对另一方的面的状态下,从由该磁场发生装置产生的磁场直接对所述从属介质外加;所述复制用磁场的外加是在配置了磁场发生装置,使所述从属介质和所述主载体紧贴的紧贴体由覆盖该紧贴体的两面的固定器保持,该固定器的单面或双面相对的状态下,由该磁场发生装置产生的磁场通过所述固定器外加在所述从属介质和所述主载体上而进行。
地址 日本神奈川县