发明名称 |
Processo para tratamento de resìduos dos processos de produção de ácido acrìlico e ácido poliacrìlico |
摘要 |
"PROCESSO PARA TRATAMENTO DE RESìDUOS DOS PROCESSOS DE PRODUçãO DE áCIDO ACRìLICO E áCIDO POLIACRìLICO". é revelado um processo para tratamento de resíduos descarregados de um processo de produção de ácido acrílico e um processo de produção de ácido poliacrílico consecutivo, no qual pelo menos um resíduo selecionado do grupo consistindo em óleo residual, água residual e gás residual do processo de produção de ácido acrílico e água residual e/ou gás residual do processo de produção de ácido poliacrílico são queimados simultaneamente.
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申请公布号 |
BR0300170(A) |
申请公布日期 |
2003.09.09 |
申请号 |
BR2003PI00170 |
申请日期 |
2003.01.30 |
申请人 |
NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. |
发明人 |
YUKIHIRO MATSUMOTO;SEI NAKAHARA;KUNIHIKO ISHIZAKI |
分类号 |
B01D53/38;B01D53/72;C02F1/72;C07B35/06;C07B37/06;C07C57/04;F23G5/00;F23G7/00;F23G7/04;F23G7/05;F23G7/06;(IPC1-7):B01D3/36;B01D3/42;C07C51/44 |
主分类号 |
B01D53/38 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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