发明名称 PATTERNING METHOD OF ANISOTROPIC POLYMER
摘要 본 발명의 한 실시예에 따른 이방성 고분자 패턴 형성 방법은 제1 기판 위에 원하는 패턴을 가지는 제1 전극을 형성하는 단계, 상기 제1 전극 위에 이방성 고분자층을 적층하는 단계, 제2 기판 위에 제2 전극을 형성하는 단계, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 서로 대향하도록 정렬하는 단계, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 전압을 인가하여, 상기 이방성 고분자층에 전기장을 인가하는 단계, 그리고 상기 이방성 고분자층을 경화하는 단계를 포함한다.
申请公布号 KR101649525(B1) 申请公布日期 2016.08.19
申请号 KR20090130050 申请日期 2009.12.23
申请人 한양대학교 산학협력단 发明人 김재훈
分类号 B01J19/08;H01L21/20 主分类号 B01J19/08
代理机构 代理人
主权项
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