Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem

摘要

Ein Beleuchtungssystem für eine mit Ultraviolettlicht arbeitende Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie hat eine winkelerhaltende Lichtmischeinrichtung mit mindestens einem Integratorstab, der eine Eintrittsfläche zum Empfang von Licht einer Lichtquelle und einer Austrittsfläche zur Abgabe von durch den Integratorstab gemischtem Austrittslicht aufweist. Dem Integratorstab ist mindestens eine Prismenanordnung zum Empfang von Austrittslicht und zur Veränderung des Polarisationszustandes des Austrittslichts nachgeschaltet. Eine bevorzugte Prismenanordnung hat eine quer zur Ausbreitungsrichtung des Austrittslichts ausgerichtete Polarisationsteilerfläche, welche Lichtanteile mit p-Polarisation ungehindert durchlässt und Anteile mit s-Polarisation reflektiert. Die separierten Strahlen mit orthogonaler Polarisation werden mittels einer parallel zur Polarisationsteilerfläche ausgerichteten Spiegelfläche parallelisiert und mit Hilfe geeigneter Retarder wird für beide Teilstrahlen der gleiche Polarisationszustand eingestellt.