PLASMABEHANDLUNGSMETHODE,申请号DE19976018808T-传众专利搜索

发明名称	PLASMABEHANDLUNGSMETHODE
摘要
申请公布号	DE69718808(T2)	申请公布日期	2003.09.04
申请号	DE19976018808T	申请日期	1997.11.14
申请人	TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO	发明人	AKAHORI, TAKASHI;NAKASE, RISA;OKA, SHINSUKE
分类号	H01L21/302;C23C16/44;C23C16/511;C23C16/52;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31;C23C16/50;H01L21/306	主分类号	H01L21/302
代理机构		代理人
主权项
地址