发明名称 射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法
摘要 本发明提供一种射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法。即在通用的锌系钝化玻璃或铅系钝化玻璃组分中添加成核剂或能提高烧结时玻璃粘度的高熔点氧化物;采用电泳沉积术涂敷于硅器件表面经热成型后即形成一薄层均匀的旨在改善台面拐角处这一关键部位在内的与台面共形的钝化玻璃膜,成核剂及高熔点金属氧化物可采用TiO<SUB>2</SUB>或Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,也可采用TiO<SUB>2</SUB>加Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>复合型添加剂。本发明其特征是在普通锌系和铅系钝化玻璃组分中按重量比添加2%到6%比例的TiO<SUB>2</SUB>或Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>,或2%-5%的TiO<SUB>2</SUB>和2%-5%的Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>复合型添加剂以改善其热成型时的性能。
申请公布号 CN1440061A 申请公布日期 2003.09.03
申请号 CN03113057.7 申请日期 2003.03.26
申请人 中国电子科技集团公司第五十五研究所 发明人 林立强;刘萍
分类号 H01L21/56 主分类号 H01L21/56
代理机构 南京天华专利代理有限责任公司 代理人 徐冬涛
主权项 1、一种射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法,该制备方法包括采用电泳沉积技术在台式硅二极管芯片表面沉积一层均匀的玻璃粉层;烘干后将样品送入高温炉,在玻璃软化温度区预成型形成预成型玻璃钝化膜;继续将样品送入高温炉的玻璃热成型温度区进行快速微晶化热成型;降温退火;其特征是在钝化玻璃原组分中按重量比添加入2%~6%TiO2或Al2O3。
地址 210016江苏省南京市中山东路524号