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经营范围
发明名称
Projection exposure apparatus and microdevice manufacturing method
摘要
申请公布号
EP0678768(B1)
申请公布日期
2003.09.03
申请号
EP19950302420
申请日期
1995.04.12
申请人
CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人
UNNO, YASUYUKI
分类号
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03B27/53
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
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