| 发明名称 | 显影装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种显影装置及其制造方法，其显影剂限制构件具有在与显影滚筒的旋转轴方向垂直的方向形成阶梯的面、在阶梯的下游一侧与显影滚筒进行压接的压接面、在阶梯的上游一侧隔着规定空间而与显影滚筒相对的相对面。本发明可通过结构简单的显影剂限制构件提高对调色剂薄膜层的限制能力以及使调色剂带电的能力，同时可用较小的驱动力使显影滚筒旋转，可防止发生调色剂附着，实现高精度显影。 | ||
| 申请公布号 | CN1120387C | 申请公布日期 | 2003.09.03 |
| 申请号 | CN99101311.5 | 申请日期 | 1999.01.13 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 驹木根弘志;武内敬三;林一雅;谷繁满;北野巧;铃木裕幸 |
| 分类号 | G03G15/08 | 主分类号 | G03G15/08 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 方晓虹 |
| 主权项 | 1.一种显影装置，具有在外周面上保持显影剂并进行旋转的显影滚筒(4)与所述显影滚筒(4)的外周面压接以将所述显影滚筒(4)上的显影剂限制在规定的层厚度的显影剂限制构件(60～73)，所述显影剂限制构件(60～73)具有在所述显影滚筒(4)的旋转方向形成阶梯(S)的面、在所述阶梯(S)的下游一侧与所述显影滚筒(4)进行压接的压接面(q)、在所述阶梯(S)的上游一侧隔着规定空间而与所述显影滚筒(4)相对的相对面(r)，其特征在于，由所述阶梯(S)形成的所述压接面(q)与所述相对面(r)之间的距离为2mm以下。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||