用于抗反射光吸收层之组合物及其用于半导体装置中以形成图案之方法

摘要

本发明系关于一种用于抗反射层之组合物，其在一种光微影方法中在该光阻层曝光之后能与光阻层同时显像，及关于一种使用该组合物在一种半导体装置形成图案之方法，其中该抗反射光吸收层组合物包含一种聚合物，其具一种(甲基)丙烯酸醋重覆单位，一种重氮之光吸收基团，其系化学性地结合至该(甲基)丙烯酸酯重覆单位，一种光酸发生剂，一种交联剂，其系热交联该聚合物，且系藉一种酸自该聚合物分解，及一种催化剂，其系供该聚合物之交联反应。该用于在一种半导体装置形成图案之方法包含使用该组合物在一种半导体基材上形成一层抗反射层，及将该抗反射层与一层光阻层同时曝光，因此可化学性地转变该抗反射层而使之成为可显像。该抗反射层与该光阻层系同时显像。