发明名称 电解容器电极用铝材料及电解电容器电极用铝箔之制造方法以及电解电容器
摘要 本发明之电解电容器电极用铝材料,其化学组成系 A1纯度99.9%以上而含Si:2至50ppm, Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm, Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,且 Zr,V中至少其一在11ppm以上而合计在11至10Oppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。上述组成物中选择性添加有1至30ppm之Ti,合计1至5Oppm之Mn群元素(Mn,Ga,Mg, Ca中之1种以上),合计1至30ppm之In群元素(In,Sn,Sb中之1种以上)。本发明之电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将上述化学组成之铝材料压延成铝箔后,于430至580℃作最终退火。
申请公布号 TW550614 申请公布日期 2003.09.01
申请号 TW090123504 申请日期 2001.09.20
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 加藤太郎;小山彰;赤尾昌人;藤平忠雄;山之井智明;张进
分类号 H01G9/004 主分类号 H01G9/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。2.如申请专利范围第1项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种之含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。3.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。4.如申请专利范围第3项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。5.如申请专利范围第3或4项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm。6.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。7.如申请专利范围第6项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种之含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。8.如申请专利范围第6或7项之电解电容器电极用铝材料,其中Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm。9.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。10.如申请专利范围第9项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。11.如申请专利范围第9或10项之电解电容器电极用铝材料,其中In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。12.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:其化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。13.如申请专利范围第12项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。14.如申请专利范围第12或13项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm。15.如申请专利范围第12或13项之电解电容器电极用铝材料,其中Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm。16.如申请专利范围第12项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种之含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,Ti含量5至20ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,B含量1ppm以下。17.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。18.如申请专利范围第17项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。19.如申请专利范围第17或18项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm。20.如申请专利范围第17或18项之电解电容器电极用铝材料,其中In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。21.如申请专利范围第17项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,Ti含量5至20ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm,B含量1ppm以下。22.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且其合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。23.如申请专利范围第22项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以上。24.如申请专利范围第22或23项之电解电容器电极用铝材料,其中Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm。25.如申请专利范围第22或23项之电解电容器电极用铝材料,其中In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。26.如申请专利范围第22项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,Zr,V中至少1种含量20ppm以上,而Zr及V合计含量20至70ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,In,Sn及Sb合计含量2至15ppm,B含量1ppm以下。27.一种电解电容器电极用铝材料,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质。28.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,Zr,V中至少1种含量20ppm以上,而Zr及V合计含量20至70ppm,B含量1ppm以下。29.如申请专利范围第27或28项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm。30.如申请专利范围第27或28项之电解电容器电极用铝材料,其中Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm。31.如申请专利范围第27或28项之电解电容器电极用铝材料,其中In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。32.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm。33.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。34.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。35.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,Zr,V中至少1种含量20ppm以上,而Zr及V合计含量20至70ppm,Ti含量5至20ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,而Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,B含量1ppm以下。36.如申请专利范围第27项电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,而Zr,V中至少1种含量20ppm以上,Zr及V合计含量20至70ppm,Ti含量5至20ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,而In,Sn及Sb合计含量2至15ppm,B含量1ppm以下。37.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Ti含量5至20ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,In,Sn及Sb合计含量2至15ppm。38.如申请专利范围第27项之电解电容器电极用铝材料,其中Si含量5至20ppm,Fe含量5至20ppm,Cu含量30至100ppm,Zn含量10至50ppm,Pb含量0.3至2ppm,Zr,V中至少1种含量20ppm以上,而Zr及V合计含量20至70ppm,Ti含量5至20ppm,Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种含量3ppm以上,Mn,Ga,Mg及Ca合计含量3至30ppm,In,Sn,Sb中至少1种含量2ppm以上,In,Sn及Sb合计含量2至15ppm,B含量1ppm以下。39.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成为A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。40.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至850℃作最终退火。41.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。42.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。43.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成为A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。44.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。45.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。46.一种电解电容器电极用铝箔之制造方法,其特征为:将化学组成系A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝材料压延成箔后,于430至580℃作最终退火。47.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。48.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。49.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少一种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。50.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含In,Sn,Sb中至少一种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。51.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。52.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。53.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。54.一种电解电容器,其特征为:阳极或阴极之至少其一系由化学组成乃A1纯度:99.9%以上,含Si:2至50ppm,Fe:2至50ppm,Cu:15至150ppm,Zn:1至80ppm及Pb:0.1至3ppm,并含Zr,V中至少1种11ppm以上且合计11至100ppm,更含Ti:1至30ppm,更含Mn,Ga,Mg,Ca中至少1种1ppm以上且合计1至50ppm,更含In,Sn,Sb中至少1种1ppm以上且合计1至30ppm,B含量限于2ppm以下,余为铝及杂质之铝箔构成。
地址 日本