| 主权项 |
1.一种电气光学装置,其特征为针对具有形成画素电极之第1透明基板与,对向配置在该第1透明基板之第2透明基板与,配置在该第2透明基板与前述第1透明基板之间的电气光学物质之电气光学装置,另于前述第1透明基板及前述第2透明基板之中之至少一方的透明基板外面,由具有与该至少一方之透明基板略等折射率之接着剂来以面接着具有与该至少一方的透明基板略等折射率之第3透明基板。2.如申请专利范围第1项之电气光学装置,其中前述第3透明基板系以面接着于前述第1透明基板之外面,再于该第3透明基板及前述第2透明基板之中至少一方之透明基板外面,重叠有具有偏光机能或反射防止机能的膜。3.如申请专利范围第1项之电气光学装置,其中前述第3透明基板以面接着在前述第2透明基板外面,再于该第3透明基板及前述第1透明基板之中至少一方的透明基板外面重叠具有偏光机能或反射防止机能的膜。4.如申请专利范围第1项之电气光学装置,其中前述第3透明基板系接着在前述第1透明基板外面及前述第2透明基板外面之双方,再于该2片之第3透明基板之至少一方的透明基板外面重叠有具有偏光机能或反射防止机能的膜。5.如申请专利范围第1至第4项之任何一项之电气光学装置,其中前述接着剂系在硬化后也具有弹性。6.如申请专利范围第5项之电气光学装置,其中硬化后之接着剂之针入度系大于60.小于90。7.如申请专利范围第5项之电气光学装置,其中接着剂的厚度为比5m厚、比30m薄。8.如申请专利范围第1项至第4项任何一项之电气光学装置,其中前述第3透明基板系吸收或反射400nm以下之紫外线。9.如申请专利范围第2项至第4项任何一项之电气光学装置,其中具有前述反射防止机能的膜系吸收或反射400nm以下之紫外线。10.一种投射型液晶装置,其特征为具有光源与,记载在将由该光源之光进行调制之申请专利范围第1项至第9项之任何一项的电气光学装置与,投射由前述电气光学装置所调制的光之投射光学系。11.一种电气光学装置之制造方法,其特征为记载于申请专利范围第1至9项任何一项之电气光学装置之制造方法,而在以面接着前述第3透明基板之工程中,在涂抹前述接着剂于该第3透明基板之内面及以面接着该第3透明基板之透明基板之外面双方后,将这些同为接着剂物质作为最初之接触点来重合该2片透明基板,然后按压扩展该接着剂,在做适当处理后再使该接着剂进行硬化。12.一种电气光学装置之制造方法,其特征为记载于申请专利范围第1项至第9项任何一项之电气光学装置之制造方法,而以面接着前述第3透明基板之工程中,该第3透明基板与以面接着该第3透明基板于外面之透明基板之中间,利用具备部份切断之密封材来围住涂抹前述接着剂之领域周围后,再将由该密封材所画分之领域内呈减压状态,对于该领域内从前述部份切断部份减压注入前述接着剂,在做适当处理后再使该接着剂硬化。13.如申请专利范围第11项或12项之电气光学装置之制造方法,其中在使该接着剂硬化之工程中根据在60℃以上100℃以下之温度下进行2小时至5小时之热处理,再使接着剂硬化。14.如申请专利范围第13项之电气光学装置之制造方法,其中于前述密封材中系添加有为了将接着剂层的厚度成为一定厚度之固体形状空隙材。15.一种电气光学装置,其特征为具备形成画素电极于显示领域之第1透明基板与,对向配置在该第1透明基板之第2透明基板与,配置于该第2透明基板与前述第1透明基板之间之电气光学物质与,至少设置在前述第1及第2透明基板其中至少一方之透明基板外面侧之第3透明基板,该第3透明基板之折射率和设于前述第3透明基板之第1及第2透明基板之至少一方之透明基板之折射率为略相等,而在该第3透明基板之前述显示领域的周边备有第1遮光膜。16.如申请专利范围第15项之电气光学装置,其中前述第1遮光膜系设置于从前述显示领域周边围至前述第3透明基板边缘之前述显示领域之领域。17.如申请专利范围第15项或16项之电气光学装置,其中于前述第1及第2透明基板之一方的前述显示领域周边系更加地具备第2遮光膜,而该第2遮光膜系设置于不重叠于设置在前述第1及第2透明基板间之密封材之形成领域地,且比前述密封材之形成领域还内侧的地方。18.如申请专利范围第15项或16项任何一项之电气光学装置,其中至少前述第1遮光膜之外面侧系由OD(Optical Density)値2以上之光反射膜来构成。19.如申请专利范围第15或16项任何一项之电气光学装置,其中至少前述第1遮光膜之内面侧系由OD値2以上之光吸收膜所构成。20.如申请专利范围第17项之电气光学装置,其中至少前述第2遮光膜之外面侧系由OD値2以上之光吸收膜所构成。21.如申请专利范围第15项或16项任何一项之电气光学装置,其中更加具备有拥有因应前述第1遮光膜之开口部,且收纳前述第1及第2透明基板以及前述第3透明基板之遮光性罩体。22.如申请专利范围第15项或16项任何一项之电气光学装置,其中前述第3透明基板系具有1.0mm以上的厚度。23.如申请专利范围第15项或16项之电气光学装置,其中前述第3透明基板与前述第1及第2透明基板之一方系由折射率略等之材料所构成。24.如申请专利范围第20项之电气光学装置,其中前述第3透明基板与对向配置在前述第3透明基板之前述第1及第2透明基板之一方系由拥有略等于前述折射率之接着剂来接着。25.如申请专利范围第15项或第16项之电气光学装置,其中于前述第3透明基板与对向配置在前述第3透明基板之前述第1及第2透明基板之一方之间系设有空隙。26.如申请专利范围第15项或16项之电气光学装置,其中于前述第3透明基板之外面系形成有偏光机能或反射防止膜。27.如申请专利范围第26项之电气光学装置,其中前述反射防止膜系具有反射400nm以下之紫外线的机能。28.如申请专利范围第15项或16项之电气光学装置,其中前述第3基板系反射或吸收400nm以下之紫外线。29.一种投射型显示装置,其特征为具备记载于申请专利范围第15项至28项任何一项之电气光学装置之投射型显示装置,而具有光源与,将由光源所射出之光进行集光之记载在申请专利范围第15项至25项任何一项之电气光学装置与,投射利用该电气光学装置进行光调制之光之扩大投射光学系。30.一种电气光学装置,其特征为具备形成画素电极于显示领域之第1透明基板与,对向配置在该第1透明基板之第2透明基板与,配置于该第2透明基板与前述第1透明基板之间之电气光学物质与,设置在至少前述第1及第2透明基板其中一方之透明基板外面侧之第3透明基板,该第3透明基板之折射率和设于前述第3透明基板之第1及第2透明基板之至少一方之透明基板之折射率为略相等,而于前述第2透明基板上系具有因应前述各自之画素电极来配置成矩阵状之复数微透镜。31.一种投射型显示装置,其特征为具有光源与,将由该光源的光进行调制之记载于申请专利范围第27项之前述电气光学装置与,投射利用该电气光学装置进行光调制之光之投射光学系。32.一种电气光学装置,其特征为具备形成画素电极于显示领域之第1基板与,对向配置在前述第1基板之第2基板与,配置于前述第1及第2基板间之电气光学物质与,至少配置在前述第1及第2基板其中一方基板之外面侧之第3基板与,配置在该第3基板上之前述显示领域之周边领域的第1遮光膜与,配置在前述第1及第2基板内面侧之显示领域之周边领域的第2遮光膜,而前述第1遮光膜之前述有效显示领域侧端部系位于比前述第2遮光膜之前述显示领域侧端部还周边侧,而前述第1遮光膜与前述第2遮光膜从平面来看至少一部份呈重叠状地配置着。33.一种电气光学装置,其特征为具有形成画素电极于显示领域之第1基板时,对向配置在前述第1基板之第2基板与,配置于前述第1及第2基板间之电气光学物质与,至少配置在前述第1及第2基板其中一方基板之外面侧的第3基板与,配置在该第3基板上之前述显示领域之周边领域之第1遮光膜与,配置在前述第1及第2基板内面侧之显示领域之周边领域之第2遮光膜与,拥有因应前述显示领域之开口部收纳第1及第2基板以及第3基板之遮光性罩体,而前述第1遮光膜之前述显示领域侧端部系位于比前述第2遮光膜之前述显示领域侧端部还周边侧,另前述第1遮光膜与前述第2遮光膜系从平面来看至少一部份呈重叠状配置着,而前述遮光性罩体之前述显示领域侧端部系位于比前述第1遮光膜之前述显示领域侧端部还周边侧,另前述遮光性罩体与前述第1遮光膜从平面来看至少一部份呈重叠状配置着。34.如申请专利范围第32项或33项之电气光学装置,其中配置第3基板于前述第2基板上而成,而前述第1基板系由矽基板而成,前述第2基板及第3基板系由透明玻璃基板而成,再于前述第1基板内面侧配置反射电极而成。35.如申请专利范围第32项或33项之电气光学装置,其中根据接着剂以面接着前述第2基板与配置在前述第2基板外面侧之前述第3基板而成,另于对向于前述第3基板上之前述第2基板的面配置前述第1遮光膜,然后再配置前述接着剂于由前述第1遮光膜所画分之领域内侧而成。36.如申请专利范围第35项之电气光学装置,其中前述第1遮光膜系具有5~30m的厚度。37.一种电气光学装置之制造方法,其特征系制造如申请专利范围第35项或第36项之电气光学装置之制造方法中,在形成于前述第3基板具备部份中断之第1遮光膜后,将前述第2基板与第3基板对向配置,再从前述部份中断部份注入前述接着剂,在做适当处理后使该接着剂进行硬化。38.一种投射型显示装置,其特征为具备光源与,将由该光源的光进行调制之记载于申请专利范围第29至34项任何一项之电气光学装置与,投射由该电气光学装置所调制之光之投射光学手段。39.一种投射型显示装置,其特征为具备将光源的光分成复数色光之色分离手段与,经由该色分离手段的分离的各色进行调制之记载于申请专利范围第32至37项任何一项之电气光学装置与,合成由该复数电气光学装置所调制之光的合成手段与,投射利用该合成手段所合成之光之投射光学手段,而因应各电气光学装置之偏光板系贴合在前述合成手段。40.一种电气光学装置,其特征系具有形成画素电极之第1透明基板,和对向配置于该第1透明基板之第2透明基板,和配置于前述第2透明基板和第1透明基板之间的电气光学物质,和设于前述第1及第2之透明基板之至少一方之透明基板的外面侧的第3透明基板,和具有定义显示范围之开口,形成于前述电气光学物质侧之透明基板的第1遮光膜,和具有较前述第1遮光膜之开口为大之开口,对于前述第1遮光膜重叠之第2遮光膜者。41.如申请专利范围第40项之电气光学装置,其中,前述第1遮光膜和前述第2遮光膜系形成于前述一方之透明基板侧者。42.如申请专利范围第40项之电气光学装置,其中,前述第1遮光膜系形成于前述一方之透明基板侧,前述第2遮光膜系形成于前述另一方之透明基板侧。43.一种电气光学装置,其特征系具备形成画素电极之第1透明基板,和对向配置于该第1透明基板之第2透明基板,和配置于前述第2透明基板和第1透明基板之间的电气光学物质,和设于前述第1及第2之透明基板之至少一方之透明基板的外面侧的第3透明基板,和具有定义显示范围之开口的遮光膜,和备有具有较前述遮光膜之开口为大之开口,对于前述遮光膜重叠之遮光部,收容前述第1透明基板和前述第2透明基板和前述第3透明基板的遮光盒。图式简单说明:[图1]表示作为灯泡使用适用本发明之液晶装置之投射型液晶装置之光学系平面图。[图2]适用本发明之液晶装置之平面图。[图3]针对表示有关液晶装置外面侧构成之第1实施形态之图2之H-H′线剖面图。[图4](A)系采用在适用本发明液晶装置之有源矩阵基板之方块图、(B)系扩大对于此构成为矩阵状之画素群其中一所表示之方块图。[图5]表示图3所示液晶装置制造工程之中,以面接着第3透明基板时之情况的剖面图。[图6]有关对于图3所示液晶装置之第1变形例之液晶装置剖面图。[图7]有关对于图3所示液晶装置之第2变形例之液晶装置剖面图。[图8]有关对于图3所示液晶装置之第3变形例之液晶装置剖面图。[图9]图8所示液晶装置制造工程之中,为了注入接着剂于透明基板之间的工程说明图。[图10]表示针对本发明液晶装置外面侧构成之第2实施形态采用可能之各种具体例之液晶装置剖面图。[图11]表示第2实施形态之各种变形例之液晶装置剖面图。[图12]针对第1实施形态之液晶装置与罩体接触部份之扩大剖面图。[图13]针对第2实施形态之构成,为了说明由入射光之射入角度等而引起之问题点的液晶装置端部扩大剖面图。[图14]针对有关本发明液晶装置外面侧构成之第3实施形态的液晶装置端部扩大剖面图。[图15]表示针对有关本发明液晶装置外面侧构成之第4实施形态,采用可能之各种具体例的液晶装置剖面图。[图16]以往之液晶装置剖面图。[图17]另外其他之以往液晶装置之剖面图。[图18]有关本发明之液晶装置与罩体之分解侧视图。[图19]为了说明第5实施形态之构成的液晶装置端部扩大剖面图。[图20]反射型液晶装置剖面图。 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