发明名称 具改良之软体错误耐受性的半导体记忆电路
摘要 本发明的课题是在不增加制造步骤数的情况下,能够提升对软性错误的耐受性。本发明的解决手段是提供一种半导体记忆电路,其包括第1反向器电路INV1,第2反向器电路INV2,及读出电路1。第1的反向器电路INV1的输入端子与第1记忆节点a相连接、输出端子与第2记忆节点b相连接。第2反向器电路 INV2的输入端子与记忆节点b相连接,输出端子与记忆节点a相连接。读出电路1包括:闸极端子与记忆节点a相连接之nMOS电晶体NM1,闸极端子与记忆节点b相连接之pMOS电晶体PM1,及将nMOS电晶体NM1及pMOS电晶体PM1的各汲极与读出位元线RBL1相连接之nMOS电晶体NR1。
申请公布号 TW550568 申请公布日期 2003.09.01
申请号 TW091109017 申请日期 2002.04.30
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 新居浩二;奥田省二
分类号 G11C11/00 主分类号 G11C11/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种半导体记忆电路,包括:第1反向器电路,当第1字元线在活性状态时,与第1位元线相连接的第1记忆节点连接到其输入端子,当第2字元线在活性状态时,与第2位元线相连接的第2记忆节点连接到其输出端子;第2反向器电路,其输入端子与上述第2记忆节点相连接,其输出端子与上述第1记忆节点相连接;及第1读出电路,其输入端子与上述第1记忆节点及上述第2记忆节点相连接,输出端子与读出位元线相连接;上述第1读出电路包括:第1MOS电晶体,其闸极端子与上述第1记忆节点相连接;第2MOS电晶体,其闸极端子与上述第2记忆节点相连接,汲极与上述第1MOS电晶体的汲极相连接;及第3MOS电晶体,与其闸极端子相连接的读出控制线在活性状态时,源极与汲极间会导通,将上述第1MOS电晶体及上述第2MOS电晶体的各个汲极与读出位元线相连接。2.如申请专利范围第1项所述的半导体记忆电路,其中第1MOS电晶体由源极接地之nMOS电晶体来构成,第2MOS电晶体由源极接地之MOS电晶体来构成。3.如申请专利范围第2项所述的半导体记忆电路,其中第3MOS电晶体是用nMOS电晶体来构成。4.如申请专利范围第1项所述的半导体记忆电路,其中第1MOS电晶体由源极与电源电压连接之nMOS电晶体所构成,第2MOS电晶体由源极与电源电压相连接之pMOS电晶体来构成。5.如申请专利范围第4项所述的半导体记忆电路,其中第3MOS电晶体由pMOS电晶体来构成。6.如申请专利范围第1项所述的半导体记忆电路,至少具有一个第2读出电路,与上述第1读出电路为相同构成,其输入端子与上述第1记忆节点及上述第2记忆节点相连接,输出端子与第2读出位元线相连接,其中该第2读出电路的第3MOS电晶体,当与其闸极连接之读出控制线在活性状态时,其源极与汲极间为导通,将上述第1MOS电晶体及上述第2MOS电晶体的各个汲极与上述第2读出位元线相连接。7.如申请专利范围第6项所述的半导体记忆电路,其中各第1MOS电晶体由源极接地之nMOS电晶体来构成,各第2MOS电晶体由源极接地之pMOS电晶体来构成。8.如申请专利范围第7项所述的半导体记忆电路,其中各第3MOS电晶体由nMOS电晶体来构成。9.如申请专利范围第6项所述的半导体记忆电路,其中各第1MOS电晶体由源极与电源电压相连接之nMOS电晶体来构成,各第2MOS电晶体由源极与电源电压相连接之pMOS电晶体来构成。10.如申请专利范围第9项所述的半导体记忆电路,其中各第3MOS电晶体由pMOS电晶体来构成。图式简单说明:[图1]此发明实施形态1中之半导体记忆电路的电路图。[图2]此发明实施形态2中之半导体记忆电路的电路图。[图3]此发明实施形态3中之半导体记忆电路的电路图。[图4]此发明实施形态4中之半导体记忆电路的电路图。[图5]先前的半导体记忆电路中之两个反向器电路的电路图。[图6]图5中之各反向器电路的内部电晶体的电路图。[图7]先前的半导体记忆电路的电路图。
地址 日本