发明名称 减低异氰尿酸三–(2,3–环氧基丙酯)晶体中残留的有机溶剂之方法
摘要 一种减低异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体中残留的有机溶剂之方法,其包括粉碎异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体粒子并从粒子表面蒸发挥发性成份。
申请公布号 TW550263 申请公布日期 2003.09.01
申请号 TW088112816 申请日期 1999.07.28
申请人 日产化学工业股份有限公司 发明人 池田久男;军司康弘;好田年成;日高基彦;青木笃巳
分类号 C07D405/14 主分类号 C07D405/14
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种减低异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体中残留的有机溶剂之方法,其包括粉碎异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体粒子同时并从粒子表面蒸发挥发性成份,其中粉碎及从粒子表面蒸发挥发性成份是在气流中进行,其中将晶体粒子粉碎成平均粒子大小为从0.5至20微米,及其中残留的有机溶剂之浓度至多为300ppm。2.如申请专利范围第1项减低残留的有机溶剂之方法,其中异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体粒子为-型异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)晶体粒子。3.如申请专利范围第2项减低残留的有机溶剂之方法,其中-型异氰尿酸三-(2,3-环氧基内酯)晶体是得自经由使氰尿酸与表氯醇在触媒存在下反应而形成异氰尿酸之氯乙醇酯,随后用硷脱去氯化氢,分离所得的硷金属盐而得到含异氰尿酸三-(2,3-环氧基丙酯)之反应溶液,并使其从溶液中结晶出。4.如申请专利范围第2项减低残留的有机溶剂之方法,其中残留的有机溶剂为表氯醇。
地址 日本