发明名称 投影光学系统的像差测定方法
摘要 本发明的方法包含:将照明光一并照射到形成有衍射格子的光掩膜的有限区域,使该照明光入射到形成在光掩膜上的衍射格子上产生的衍射光入射到投影光学系统,把从该投影光学系统射出的0次衍射光以及1次衍射光,投影在与上述二次光源共轭的测定面上,测定从上述二次光源内的任意一个点光源发出的光线入射到上述衍射格子中发生的0次衍射光以及1次衍射光在上述测定面上的投影位置的位置关系的步骤;在上述光线的光轴方向位置和上述测定面不同的第2测定面上测定上述位置关系的步骤;根据求得的位置关系,求出与用于上述位置关系的测定的光线有关的光线像差的步骤。
申请公布号 CN1438477A 申请公布日期 2003.08.27
申请号 CN03102390.8 申请日期 2003.02.12
申请人 株式会社东芝 发明人 福原和也;佐藤隆
分类号 G01M11/02;G01M11/00;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G01M11/02
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 李峥;陈海红
主权项 1.一种投影光学系统的像差测定方法,包含:准备具备光源、在把来自该光源的光分割成多个点光源形成二次光源的同时,把来自该二次光源的照明光引导在光掩膜的有限区域上的照明光学系统、把由被配置在该光掩膜上的图案产生的透过光的缩小投影像转印在晶片上的投影光学系统的曝光装置;将上述照明光一并照射到形成有衍射格子的光掩膜的有限区域;使用上述投影光学系统,将通过上述光掩膜的0次衍射光及1次衍射光投影在与上述光源共轭的第1测定面上;测定从上述二次光源内的任意一个点光源照射的光线的0次衍射光及1次衍射光在上述第1测定面上的投影位置的关系;使用上述投影光学系统,把上述0次衍射光以及1次衍射光投影在与上述光源共轭、并且上述光线的光轴方向位置不同的第2测定面上;测定从上述一个点光源照射的光源的0次衍射光及1次衍射光的上述第2测定面的投影位置关系;根据求得的两个投影位置的关系,求出与从上述一个点光源照射的光线有关的光线像差。
地址 日本东京都