| 发明名称 | 扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置 | ||
| 摘要 | 提供一种扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置，可以以容易且简单的方法在满足副扫描剖面内的像面弯曲的同时，提高表面偏斜校正功能，由偏转元件的偏转面的表面偏斜产生的照射位置偏离小的高品质的图像记录中适用。其中包括：将从光源装置(1)出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件(2)；将来自该第一光学元件(2)的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件(4)；使来自该第二光学元件(4)的光束偏转扫描的偏转元件(5)；以及使来自该偏转元件(5)的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件(6)；且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭，在该偏转光束中，光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。 | ||
| 申请公布号 | CN1438511A | 申请公布日期 | 2003.08.27 |
| 申请号 | CN03103884.0 | 申请日期 | 2003.02.14 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 加藤学 |
| 分类号 | G02B26/10;G03G15/01 | 主分类号 | G02B26/10 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
| 主权项 | 1.一种扫描光学装置，包括：将从光源装置出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件；将来自该第一光学元件的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件；使来自该第二光学元件的光束偏转扫描的偏转元件；以及使来自该偏转元件的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件；且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭；其特征在于：在该偏转光束中，光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||