发明名称 |
一种用于电子元器件的硅基铁电夹心结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于电子元器件的硅基铁电夹心结构的制备方法,首先制备PZT和PT先驱溶胶备用,在单晶硅衬底上生长二氧化硅,再在溅射一层金属Pt/Ti层作底层电极,在其上旋涂一层PT溶胶,再旋涂一层PZT溶胶,最后在铁电薄膜表面旋涂一层正胶,光刻,溅射一层金属Pt/Ti层,正胶剥离形成顶层电极,即得本发明的用于电子元器件的夹心结构。本发明方法降低了铁电薄膜的退火温度,从而提高了铁电薄膜的制备工艺与微电子工艺的兼容性。 |
申请公布号 |
CN1119837C |
申请公布日期 |
2003.08.27 |
申请号 |
CN00105549.6 |
申请日期 |
2000.03.31 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
任天令;张林涛;刘理天;李志坚 |
分类号 |
H01L41/22;H01L41/16;C04B35/01;C04B35/622 |
主分类号 |
H01L41/22 |
代理机构 |
北京清亦华专利事务所 |
代理人 |
罗文群 |
主权项 |
1、一种用于电子元器件的硅基铁电夹心结构的制备方法,其特征在于,该制备 方法包括以下各步骤: (1)制备Pb<sub>x</sub>(Zr<sub>y</sub>Ti<sub>1-y</sub>)O<sub>3</sub>即PZT先驱溶胶备用,使其中x=0.9~1.1,y=0.4~0.6: 根据PZT组分称取相应量的醋酸铅,硝酸锆和钛酸四丁酯溶于有机溶剂中; (2)制备PT先驱溶胶备用,使其中Pb的含量在0.9~1.1之间:根据PT组分 称取相应量的醋酸铅和钛酸四丁酯溶于有机溶剂中; (3)在单晶硅衬底上热氧化生长一层5000的二氧化硅,氧化过程由干氧-湿氧 -干氧三步组成; (4)在二氧化硅层上射频磁控溅射一层金属Pt/Ti层作底层电极,Pt层厚度为 1000~2000,Ti层厚度为50~100,溅射环境温度120℃,溅射频率13.56MHz; (5)在Pt/Ti/SiO<sub>2</sub>/Si衬底上旋涂一层上述第2步制备的PT溶胶,然后在380℃ 环境中预热处理1分钟去除有机溶剂,再在600℃环境中热处理2分钟彻底去除有机 组分,最后使PT层的厚度在0.01~0.1μm; (6)在上述PT层上旋涂一层第1步制备的PZT溶胶,然后在380℃环境中预 热处理1分钟去除有机溶剂,再在600℃环境中热处理2分钟彻底去除有机组分,重 复旋涂和预热处理后使PZT薄膜厚度达到0.15~2μm; (7)在PZT薄膜表面旋涂一层PT层,然后在380℃环境中预热处理1分钟去 除有机溶剂,再在600℃环境中热处理2分钟彻底去除有机组分,PT层的厚度在0.01~ 0.1μm; (8)将上述制备的PT/PZT/PT薄膜在700℃环境中热处理30分钟即获得铁电薄 膜; (9)在铁电薄膜表面旋涂一层正胶,根据顶层电极位置有选择地光刻,再溅射 一层金属Pt/Ti层,溅射温度为46℃,溅射频率13.56MHz,正胶剥离形成顶层电极, 其中Pt层厚度为800~1000,Ti层厚度为50~100,即得用于电子元器件的硅基 铁电夹心结构。 |
地址 |
100084北京市海淀区清华园 |