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发明名称 Advanced illumination system for use in microlithography
摘要
申请公布号 EP1319983(A3) 申请公布日期 2003.08.27
申请号 EP20020023411 申请日期 2002.10.18
申请人 ASML US, INC. 发明人 OSKOTSKY, MARK;RYZHIKOV, LEV;COSTON, SCOTT;TSACOYEANES, JAMES;BAUMGARTNER, PETER J.;AUGUSTYN, WALTER
分类号 G02B19/00;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20;G21K5/04;G21K1/06 主分类号 G02B19/00
代理机构 代理人
主权项
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