| 主权项 |
1.一种光阻脱除(stripper)装置,包含:一光阻脱除单元(stripper unit),包含至少一第一腔室,该第一腔室两侧分别具有一第一开口与一第二开口,该第一腔室中置有至少一第一喷头,用以喷洒第一光阻脱除液,以及至少一第二喷头,用以喷洒第二光阻脱除液,其中该第二光阻脱除液温度低于该第一光阻脱除液;以及一清洗单元,其包含至少一腔室,该腔室两侧分别具有一第一开口与一第二开口,该腔室中置有至少一空气喷头与至少一水喷头;其中该光阻脱除单元之该第一腔室之该第二开口与该清洗单元之该腔室之该第一开口相连结;以及该第二喷头系位于该第一喷头与该光阻脱除单元之第一腔室之第二开口之间。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该第二光阻脱除液温度较该第一光阻脱除液之温度低10℃至30℃。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其更包含一传送单元,以传送一基板。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其更包含一光阻脱除液储存槽,储存并提供新鲜光阻脱除液;该光阻脱除液储存槽与该光阻脱除单元中之第二喷头相连接。5.如申请专利范围第4项所述之装置,其中该光阻脱除液储存槽所提供之光阻脱除液之温度范围为20℃至65℃。6.如申请专利范围第4项所述之装置,其中该光阻脱除液储存槽所提供之光阻脱除液之温度范围为30℃至50℃。7.如申请专利范围第1项所述之装置,其中更包含一光阻脱除液供应槽,提供第一光阻脱除液,该光阻脱除液供应槽与该光阻脱除单元中之第一喷头相连。8.如申请专利范围第7项所述之装置,其中该光阻脱除液供应槽所提供之光阻脱除液温度范围为50℃至70℃。9.如申请专利范围第7项所述之装置,其中该光阻脱除液供应槽所提供之光阻脱除液温度系为65℃。10.如申请专利范围第4项或第7项所述之装置,其中之光阻脱除液供应槽或储存槽更包含至少一温度控制单元。11.如申请专利范围第1项所述之装置,其更包含一回收单元,将使用过之光阻脱除液回收至该光阻脱除液供应槽中。12.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该光阻脱除单元中之至少一喷头设计为液刀式喷头。13.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该光阻脱除单元中之至少一喷头之一侧边具复数个孔洞,自该孔洞喷洒出光阻脱除液。14.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该光阻脱除单元另包含一第二腔室,该第二腔室之两侧分别具有一第三开口与一第四开口,该第二腔室之第四开口与该第一腔室之第一开口相连结;以及该第二腔室中置有至少一第三喷头,用以喷洒第三光阻脱除液,其中该第一光阻脱除液与第三光阻脱除液之温度皆高于第二光阻脱除液之温度。15.如申请专利范围第14项所述之装置,其更包含一第三光阻脱除液供应槽,该第三光阻脱除液供应槽系与该光阻脱除单元中之第三喷头相连。16.一种光阻脱除(stripper)方法,包含:使用一光阻脱除单元以脱除基板上之光阻,该光阻脱除单元(stripper unit),包含至少一第一腔室,该第一腔室两侧分别具有一第一开口与一第二开口,该第一腔室中置有至少一第一喷头,用以喷洒第一光阻脱除液,以及至少一第二喷头,用以喷洒第二光阻脱除液,其中该第二光阻脱除液温度低于该第一光阻脱除液;以及,使用一清洗单元用以吹乾与清洗经脱除光阻之基板,该清洗单元包含至少一腔室,该腔室两侧分别具有一第一开口与一第二开口,该腔室中置有至少一空气喷头与至少一水喷头;其中该光阻脱除单元之该第一腔室之该第二开口与该清洗单元之该腔室之该第一开口相连结;以及该第二喷头系位于该第一喷头与该光阻脱除单元之第一腔室之第二开口之间。17.如申请专利范围第16项所述之方法,其中该第二光阻脱除液温度较该第一光阻脱除液之温度低10℃至30℃。18.如申请专利范围第16项所述之方法,其更包含一光阻脱除液储存槽,储存并提供新鲜光阻脱除液;该光阻脱除液储存槽与该光阻脱除单元中之第二喷头相连接。19.如申请专利范围第16项所述之方法,其中该光阻脱除单元另包含一第二腔室,该第二腔室之两侧分别具有一第三开口与一第四开口,该第二腔室之第四开口与该第一腔室之第一开口相连结;以及该第二腔室中置有至少一第三喷头,用以喷洒第三光阻脱除液,其中该第一光阻脱除液与第三光阻脱除液之温度皆高于第二光阻脱除液之温度。图式简单说明:第1图系习知技艺之示意图。第2图系本发明仅含一个光阻脱除单元之一较佳实施例示意图。第3图系本发明含二个光阻脱除单元之另一较佳实施例示意图。 |
