| 主权项 |
1.一制造一滤色镜之滤色镜制造方法,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,在孔口表面被擦拭时,于水相斥构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。2.如申请专利范围第1项之方法,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。3.如申请专利范围第1项之方法,其中,瑕疵部份系在水相斥构件中产生之一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。4.如申请专利范围第1项之方法,其中,当墨水自喷墨磁头排出时,墨水之起落位置在预定方向中偏移。5.如申请专利范围第1项之方法,其中,包括以水相斥构件覆盖整体孔口表面。6.如申请专利范围第1项之方法,其中,该方法包括在相对地扫瞄喷墨磁头与基体时排出墨水,且扫瞄方向与预定方向一致。7.如申请专利范围第1项之方法,其中,该方法包括在相对地扫瞄喷墨磁头与基体时排出墨水,且扫瞄方向系垂直于预定方向。8.如申请专利范围第1项之方法,其中,着色区域系为红、绿与蓝。9.如申请专利范围第1项之方法,其中,着色区域包含在预定方向中之多数的像素。10.如申请专利范围第1项之方法,其中,着色区域包含在预定方向中的一像素。11.如申请专利范围第1项之方法,其中,擦拭构件系一弹性构件。12.如申请专利范围第1项之方法,其中,喷墨磁头系一供经由使用热能排出墨水之磁头,磁头具有一热能产生器,用以产生施加至墨水的热能。13.如申请专利范围第1项之方法,其中,喷墨磁头包括一压电元件,其于接收一电能时遭受位移,且以一附随于位移之压力改变排出墨水。14.一制造一滤色镜之滤色镜制造装置,经由自一喷墨磁头排水墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及擦拭机构,用以控制该擦拭构件之擦拭作业,其中,在孔口表面被擦拭时,于水相斥构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,由该擦拭机构控制之该擦拭构件的擦拭方向,与沿着预定方向之一方向一致。15.如申请专利范围第14项之装置,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。16.如申请专利范围第14项之装置,其中,瑕疵部份系在水相斥构件中产生之一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。17.如申请专利范围第14项之装置,其中,当墨水自喷墨磁头排出时,墨水之起落位置在预定方向中偏移。18.如申请专利范围第14项之装置,其中,水相斥构件覆盖整体孔口表面。19.如申请专利范围第14项之装置,其中,喷墨磁头与基体均相对地扫瞄时排出墨水,且扫瞄方向与预定方向一致。20.如申请专利范围第14项之装置,其中,在喷墨磁头与基体均相对地扫瞄时排出墨水,且扫瞄方向系垂直于预定方向。21.如申请专利范围第14项之装置,其中,着色区域系为红、绿与蓝。22.如申请专利范围第14项之装置,其中,着色区域包含在预定方向中之多数的像素。23.如申请专利范围第14项之装置,其中,着色区域包含预定方向中的一像素。24.如申请专利范围第14项之装置,其中,该擦拭构件系一弹性构件。25.如申请专利范围第14项之装置,其中,喷墨磁头系一供经由使用热能排出墨水之磁头,磁头具有一热能产生器,用以产生施加至墨水的热能。26.如申请专利范围第14项之装置,其中,喷墨磁头包括一压电元件,其于接收一电能时遭受位移,且以一附随于位移之压力改变排出墨水。27.一显示器制造方法,制造使用一滤色镜之显示器,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:以申请专利范围第1项所界定之制造方法制造一滤色镜;及整合滤色镜与用以改变光线数量之光线数量改变机构。28.一制造具有使用一滤色镜之显示器的装置之制造方法,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:以申请专利范围第1项所界定之制造方法制造一滤色镜;整合滤色镜与用以改变光线数量之光线数量改变机构;及提供用以供应一影像讯号至显示器之影像讯号供应机构。29.一制造一显示器面板之显示面板制造方法,经由自一液体供应磁头排出一液体至一基体上,以形成延伸在一预定方向中且被使用以供显示用之显示部份,液体供应磁头具有一孔口表面,供排出液体之孔口系形成在孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,在孔口表面被擦拭时,于水相斥构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。30.如申请专利范围第29项之方法,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。31.如申请专利范围第29项之方法,其中,瑕疵部份系在水相斥构件中产生之一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。32.如申请专利范围第29项之方法,其中,当液体自液体供应磁头排出时,液体之起落位置在预定方向中偏移。33.如申请专利范围第29项之方法,其中,包括以水相斥构件覆盖整体之孔口表面。34.如申请专利范围第29项之方法,其中,液体系一自发地发射光线之EL元件,且该区域系一发光层。35.如申请专利范围第29项之方法,其中,液体系一墨水,且该区域系由墨水形成之一着色层。36.一制造一显示器面板之显示器面板制造装置,经由自一液体供应磁头排出一液体至一基体上,以形成延伸在一预定方向中且被使用以供显示用之显示部份,液体供应磁头具有一孔口表面,供排出液体之孔口系形成在孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括:一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及擦拭构件,用以控制该擦拭构件之擦拭作业,其中,在孔口表面被擦拭时,于水相斥构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,由该擦拭机构控制之该擦拭构件的擦拭方向,与沿着预定方向之一方向一致。37.如申请专利范围第36项之装置,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。38.如申请专利范围第36项之装置,其中,瑕疵部份系在水相斥构件中产生一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。39.如申请专利范围第36项之装置,其中,当液体自液体供应磁头排出时,液体之起落位置在预定方向中偏移。40.如申请专利范围第36项之装置,其中,水相斥构件覆盖整体孔口表面。41.如申请专利范围第36项之装置,其中,液体系一自发地发射光线之EL材料,且该区域系一发光层。42.如申请专利范围第36项之装置,其中,液体系一墨水,且该区域由墨水形成之一着色层。43.一制造一滤色镜之滤色镜制造方法,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的保护构件,包括下列步骤:预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,在孔口表面被擦拭时,于保护构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。44.如申请专利范围第43项之方法,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。45.如申请专利范围第43项之方法,其中,瑕疵部份在水相斥构件中产生之一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。46.如申请专利范围第43项之方法,其中,当墨水自喷墨磁头排出时,墨水之起落位置在预定方向中偏移。47.如申请专利范围第43项之方法,其中,包括以保护构件覆盖整体孔口表面。48.一制造一滤色镜之滤色镜制造装置,经由自一喷墨磁头排水墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的保护构件,包括下列步骤:一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及擦拭机构,用以控制该擦拭构件之擦拭作业,其中,在孔口表面被擦拭时,于保护构件中产生一瑕疵部份,且在擦拭方向中产生瑕疵部份,且其中,由该擦拭机构控制之该擦拭构件的擦拭方向,与沿着预定方向之一方向一致。49.如申请专利范围第48项之装置,其中,瑕疵部份具有一伸长在擦拭方向中的形状。50.如申请专利范围第48项之装置,其中,瑕疵部份系在水相斥构件中产生之一裂痕部份,或水相斥构件之一剥落部份。51.如申请专利范围第48项之装置,其中,当墨水自喷墨磁头排出时,墨水之起落位置在预定方向中偏移。52.如申请专利范围第48项之方法,其中,包括以保护构件覆盖整体孔口表面。53.一制造一显示器面板之显示面板制造方法,经由自一液体供应磁头排出一液体至一基体上,以形成延伸在一预定方向中且被使用以供显示用之显示部份,液体供应磁头具有一孔口表面,供排出液体之孔口系形成在孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的预定材料,包括下列步骤:预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。54.一制造一显示器面板之显示器面板制造装置,经由自一液体供应磁头排出一液体至一基体上,以形成延伸在一预定方向中且被使用以供显示用之显示部份,液体供应磁头具有一孔口表面,供排出液体之孔口系形成在孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的预定材料,包括:一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及擦拭构件,用以控制该擦拭构件之擦拭作业,其中,由该擦拭机构控制之该擦拭构件的擦拭方向,与沿着预定方向之一方向一致。55.一制一滤色镜之滤色镜制造方法,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括下列步骤:调整喷墨磁头相关于预定方向之角度,以一垂直于预定方向之方向,配合以相同颜色着色之二彩色区域之间的间距与被使用之喷墨磁头的多数孔口之二孔口之间的间距;预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及在维持被调整之角度时,以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,在孔口表面被擦拭多次时,于水相斥构件中产生一剥落剖份,且剥落部份均产生在擦拭方向中,且擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。56.如申请专利范围第55项之方法,其中,擦拭构件之擦拭,系在每次N个(N系不少于1之整数)滤色镜制造后执行。57.如申请专利范围第55项之方法,其中,经由在预定方向中及在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件,执行擦拭构件之擦拭。58.如申请专利范围第55项之方法,其中,经由在预定方向中移动擦拭构件,执行擦拭构件之擦拭。59.如申请专利范围第56项之方法,其中,进一步包括在每次N个滤色镜被制造后,转换供经由在预定方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第一擦拭作业,与供经由在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的步骤。60.如申请专利范围第59项之方法,其中,进一步的包括转换擦拭作业至交替她执行第一擦拭作业与第二擦拭作业之步骤。61.如申请专利范围第55项之方法,其中,进一步包括转换擦拭构件之擦拭方向的步骤,使得供经由在预定方向中移动擦拭构件而执行之第一擦拭作业的次数,成为实质上等于供经由在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的多数。62.一制一滤色镜之滤色镜制造装置,经由自一喷墨磁头排出墨水至一滤色镜基体上,以形成延伸在预定方向中之彩色单元的着色区域,喷墨磁头具有一孔口表面,供排出墨水之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的水相斥构件,包括:调整机构,用以调整喷墨磁头相关于预定方向二角度,以一垂直于预定方向之方向,配合以相同颜色着色之二彩色区域之间的间距与被使用之喷墨磁头的多数孔口之二孔口之间的间距;一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及擦拭机构,在维持被调整之角度时,用以执行控制以擦拭构件擦拭孔口表面,其中,在孔口表面被擦拭多次时,于水相斥构件中产生一剥落剖份,且剥落部份均产生在擦拭方向中,且擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。63.如申请专利范围第62项之装置,其中,以该擦拭构件之擦拭,系在每次N个(N系不少于1之整数)滤色镜制造后执行。64.如申请专利范围第62项之装置,其中,经由在预定方向中及在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件,执行以该擦拭构件之擦拭。65.如申请专利范围第62项之装置,其中,经由在预定方向中移动擦拭构件,执行以该擦拭构件之擦拭。66.如申请专利范围第63项之装置,其中,进一步包括在每次N个滤色镜被制造后,转换供经由在预定方向中移动该擦拭构件而执行擦拭之第一擦拭作业,与供经由在相对于预定方向之方向中移动该擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的步骤。67.如申请专利范围第66项之方法,其中,进一步的包括转换擦拭作业至交替地执行第一擦拭作业与第二擦拭作业之步骤。68.如申请专利范围第62项之装置,其中,转换该擦拭构件之擦拭方向的步骤,使得供经由在预定方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第一擦拭作业的次数,成为实质上相等于供经由在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的多数。69.一制造一显示器面板之方法,经由自一磁头排出供显示用之材料至一基体上以形成显示部份,其系延伸在预定方向中且被使用以供显示之用,磁头具有一孔口表面,供排出被使用以显示之用的材料之孔囗系形成于孔口表面,及一至少覆盖孔口之周边部份的预定材料,其包括下列步骤:调整磁头相关于预定方向之角度,以一垂直于预定方向之方向,配合以相同材料形成之二显示部份之间的间距与被使用之磁头的多数孔口之二孔口之间的间距;预备一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及在维持被调整之角度时,以擦拭构件擦拭孔囗表面,其中,在孔口表面被擦拭多次时,于预定材料中产生剥落部份,且剥落部份均产生在擦拭方向中,且擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之之一方向一致。70.一制一显示器面板之装置,经由自一磁头排出供显示用之媒质至一基体上以形成显示部份,其系延伸在预定方向中且被使用以供显示之用,磁头具有一孔口表面,供排出被使用以显示之用的媒质之孔口系形成于孔口表面中,及一至少覆盖孔口之周边部份的预定材料,包括:调整磁头相关于预定方向之角度,以一垂直于预定方向之方向,配合以相同材料形成之二显示部份之间的间距与被使用之磁头的多数孔口之二孔口之间的间距;一擦拭构件,用以擦拭孔口表面;及在由该调整机构所调整之角度被维持时,用以执行控制以该擦拭构作擦拭孔口表面之擦拭机构,其中,在孔口表面被擦拭多次时,于预定材料中产生剥落部份,且剥落部份均产生在擦拭方向中,且,该擦拭构件之擦拭方向系与沿着预定方向之一方向一致。71.如申请专利范围第1项之方法,其中,擦拭构件之擦拭,系在每次N个(N系不少于1之整数)滤色镜被制造后执行。72.如申请专利范围第1项之方法,其中,经由在预定方向中及在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件,执行擦拭构件之擦拭。73.如申请专利范围第1项之方法,其中,经由在预定方向中移动擦拭构件,执行擦拭构件之擦拭。74.如申请专利范围第71项之方法,其中,进一步包括在每次N个滤色镜被制造后,转换供经由在预定方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第一擦拭作业,与供经由在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的步骤。75.如申请专利范围第74项之方法,其中,进一步的包括转换擦拭作业至交替地执行第一擦拭作业与第二擦拭作业之步骤。76.如申请专利范围第1项之方法,其中,进一步包括转换擦拭构件之擦拭方向的步骤,使得供经由在预定方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第一擦拭作业的次数,成为实质上相等于供经由在相对于预定方向之方向中移动擦拭构件而执行擦拭之第二擦拭作业的多数。图式简单说明:图1系一立体图,显示依据一实施例的滤色镜制造装置之配置;图2系一方块图,显示供控制滤色镜制造装置之作业的一控制单元之配置;图3系一立体图,显示被使用在滤色镜制造装置中之一喷墨磁头的结构;图4系一显示滤色镜制造方法之示意图;图5A至5F均为剖面图,显示制造一滤色镜之步骤;图6系一剖面图,显示配合依据本实施例之滤色镜的一彩色液晶显示器之基本结构的范例;图7系一剖面图,显示配合依据本实施例之滤色镜的一彩色液晶显示器之基本结构的另一范例;图8系一剖面图,显示配合依据本实施例之滤色镜的一彩色液晶显示器之基本结构的再另一范例;图9系一方块图,显示使用液晶显示器的一资讯处理装置;图10系一立体图,显示使用液晶显示器的资讯处理装置;图11系一立体图,显示使用液晶显示器的资讯处理装置;图12系一略图,显示一喷墨磁头之喷嘴表面;图13系一立体图,显示供喷墨磁头用之一回收单元的结构;图14系一图表,显示自喷墨磁头排出之墨水的起落位置偏移;图15系一图表,显示自喷墨磁头排出之墨水的起落位置偏移;图16系显示在一滤色镜之着色像素与喷墨磁头之喷嘴之间的关系之示意图;图17系显示在初始状态中自喷墨磁头排出之墨水的起落位置之示意图;图18系显示在操作方向中之一滤色镜的着色像素、喷墨磁头,及回收单元之间的关系之示意图;图19系显示当以示于图18中之配置重复擦拭时,自喷墨头排出之墨水的起落位置之示意图;图20系显示在操作方向中之一滤色镜的着色像素,喷墨磁头,及回收单元之间的关系示意图;图21系显示当以示于图20中之配置重复擦拭时,自喷墨磁头排出之墨水的起落位置之示意图;图22系显示一滤色镜之着色像素与喷墨磁头之喷嘴之间的关系之示意图;图23图系一立体图,显示部份的滤色镜制造装置;图24系显示在一滤色镜之着色像素,喷墨磁头,及一回收单元之间的关系;图25A至25D均为剖面图,显示在制造一滤色镜中之步骤的另一范例;图26系显示在喷墨磁头与叶片之间的位置关系之示意图;图27系显示在喷墨磁头与叶片之间的位置关系之示意图;图28A至28C均为略图,显示喷墨磁头之孔口表面的显示之改变;图29A与29B均为略图,显示喷墨磁头之孔口表面的初始状态;图30系一立体图,显示在初始状态中,墨水系如何自喷墨磁头排出;图31系一略图,显示在初始状态中自喷墨磁头排出之墨水的起落位置;图32A与32B均为略图,显示在重复擦拭之后,喷墨磁头之孔口表面的状态;图33系一立体图,显示在重复擦拭之后,墨水如何自喷墨磁头排出;图34系一略图,显示在重复擦拭之后,自喷墨磁头排出之墨水的起落位置;图35系一略图,显示在操作方向中之一滤色镜的着色像素,喷墨磁头,及回收单元之间的关系之范例;图36系一略图,显示在操作方向中之一滤色镜的着色像素,喷墨磁头,及回收单元之间的关系之范例;图37系一剖面图,显示一EL元件之结构;及图38A至38D均为用以解释延伸在一预定方向中之着色区域的示意图。 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