| 发明名称 |
Positive photoresist composition |
| 摘要 |
A composition includes (A) an alkali-soluble resin; and (B) (b-1) a compound of Formula (I): wherein Ds are each a hydrogen atom or a naphthoquinonediazidosulfonyl group; and (b2) a quinonediazide ester of, for example, bis(2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl)-3,4-dihydroxyphenylmethane.
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| 申请公布号 |
US2003157424(A1) |
申请公布日期 |
2003.08.21 |
| 申请号 |
US20020328014 |
申请日期 |
2002.12.26 |
| 申请人 |
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. |
发明人 |
HAGIHARA MITSUO;TACHI TOSHIAKI;MARUYAMA KENJI |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/038;G03F7/30;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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