金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法

摘要

一种金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法，其特征在于强化直流溅射条件，采用高磁控钛靶溅射，并结合高溅射电流密度、高基板温度、低工作气压及高氧分压条件，以保证充分的电离和沉积薄膜的氧化，并使溅射稳定，提高沉积率。本发明制备的二氧化钛薄膜为含少量锐钛矿的金红石多晶结构，具有良好的耐摩擦性和疏水特性，表面附着力非常好，可用于玻璃镜片、陶瓷，幕墙玻璃和汽车后视镜等材料的表面镀膜，也可用于制备某些生物医药材料。

主权项

1、一种金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法，其特征在于强化直流溅射条件，采用高磁控钛靶溅射，并结合高溅射电流密度、高基板温度、低工作气压及高氧分压条件，钛靶表面磁场强度为1000高斯，靶面至基板的距离为7cm，制备时先烘烤真空室，本底真空至1×10-3Pa后，在溅射靶附近通入氩气，保持氩气压为1Pa，加高电压电离氩气产生辉光放电，调节氩气压至0.4Pa，溅射稳定后，在基板附近通入氧气，工作气压维持在0.4Pa，分压比O2∶Ar＝1∶1，调节电压，使溅射电流密度为50mA/cm2，基板温度控制在360度，沉积率为0.7nm/s。