半导体晶片清洗装置

摘要

一种改进的半导体晶片清洗装置，其内槽分成上下两部分形成可调内槽，可在清洗晶片时合拢内槽上部，以减小清洗空间和清洗液用量，增强清洗效果。该装置包括：具有清洗液供给管和排放管的外槽；置于外槽内的下部内槽，置于下部内槽上的上部内槽，上部内槽在第一铰接部件的配合下可调；与第二部件一起配置的驱动部件，用于关开上部内槽；控制驱动部件的控制部件；配送清洗液的挡板；以及为供给管配置的向内槽提供清洗液的泵。

主权项

1一种半导体晶片清洗装置，包括：具有提供清洗液的供给管和排放清洗液的排放管的外槽；置于外槽内的下部内槽；置于下部内槽之上的上部内槽，上部内槽在第一铰接部件的配合下可调；与一个第二铰接部件一起配置的驱动部件，用于关开所述上部内槽；控制驱动部件的控制部件；分送通过供给管供给的清洗液的挡板；以及给供给管配置的泵，用于给内槽提供清洗液。