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Eine Spiegelfacette (11) dient zum Aufbau eines wenigstens einen dieser Spiegelfacetten (11) umfassenden Facettenspiegels (10). Der Facettenspiegel (10) ist für den Einsatz in Projektionsbelichtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, vorgesehen. Die Spiegelfacette (11) weist dabei folgende Eigenschaften auf: DOLLAR A - Eine Spiegeloberfläche (12) der Spiegelfacette (11) ist auf einem Trägerelement (14) angeordnet; DOLLAR A - das Trägerelement (14) weist eine kardanische Aufhängung für den Teil (17) des Trägerelements (14) auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist; DOLLAR A - über Stellmittel (19, 20, 25, 26) ist die Winkellage der Spiegeloberfläche (12) in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) in wenigstens einer Raumrichtung einstellbar; DOLLAR A - die Stellmittel (19, 20, 25, 26) wirken über Getriebeelemente (21, 22, 24) auf wenigstens einen Teil (A) des Trägerelements (14); DOLLAR A - die Stellmittel (19, 20, 25, 26) sind von der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite der Spiegelfacette (11) aus zugänglich; und DOLLAR A - das Trägerelement (14), die Stellmittel (19, 20, 25, 26) und die Getriebeelemente (21, 22, 24) liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) stehenden Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Bereich der Spiegeloberfläche (12).
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