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Bei einem Verfahren zur Korrektur von schwingungsinduzierten Abbildungsfehlern in einem Objektiv, insbesondere ein Projektionsobjektiv in der Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterelementen, sind ein wenigstens erstes Objektivteil (3a) und ein zweites Objektivteil (3b) vorgesehen. Dabei wählt das erste Objektivteil (3a) eine erste optische Achse (22) und das zweite Objektivteil (3b) eine optische Achse (23) auf, die von der ersten optischen Achse (22) abweicht. Über wenigstens ein optisches Strahlumlenkelement (8, 24) findet eine Strahlumlenkung zwischen den beiden Objektivteilen (3a, 3b) statt. Die in dem zweiten Objektivteil (3b) auftretenden Shwingungen werden über eine Sensorik (15) gemessen und ausgewertet. Die Ergebnisse werden als Eingangsdaten für eine die Strahlrichtung im Objektiv verstellende Einrichtung (19) derart verwendet, daß durch die Schwingungen des zweiten Objektivteiles (3b) auftretende Abbildungsfehler kompensiert werden.
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