| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Korrektur von schwingungsinduzierten Abbildungsfehlern in einem Objektiv, insbesondere ein Projektionsobjektiv in der Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterelementen, sind ein wenigstens erstes Objektivteil (3a) und wenigstens ein zweites Objektivteil (3b) vorgesehen. Dabei weist das erste Objektivteil (3a) eine erste optische Achse (22) und das wenigstens zweite Objektivteil (3b) eine optische Achse (23) auf, die von der ersten optischen Achse (22) abweicht. Über wenigstens ein optisches Strahlumlenkelement (8, 24) findet eine Strahlumlenkung zwischen den Objektivteilen (3a, 3b) statt. Die in wenigstens einem Objektivteil (3b) auftretenden Schwingungen werden über eine Sensorik (15) gemessen und ausgewertet. Die Ergebnisse werden als Eingangsdaten für eine die Strahlrichtung im Objektiv verstellende Einrichtung (19) derart verwendet, dass durch die Schwingungen des schwingenden Objektivteiles (3b) auftretende Abbildungsfehler kompensiert werden.</p> |
