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发明名称 PLASMA TREATMENT OF THERMAL CVD TAN FILMS FROM TANTALUM HALIDE PRECURSORS
摘要
申请公布号 EP1192292(B1) 申请公布日期 2003.08.13
申请号 EP20000928417 申请日期 2000.04.26
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HAUTALA, JOHN, J.;WESTENDORP, JOHANNES, F., M.
分类号 C23C16/34;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/34 主分类号 C23C16/34
代理机构 代理人
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