发明名称 | 通过自动匹配测量场的磁共振成像方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种磁共振成像方法,该方法对受检体(1)的感兴趣区域进行成像磁共振测量,并显示出该感兴趣区域内预先给定位置和取向的断层的磁共振断层图像,其中,在进行成像磁共振测量之前,对受检体(1)的至少一部分进行二维或三维磁共振概貌摄影。该方法还依据磁共振概貌摄影自动确定所述受检体(1)部分的包络(2),并在考虑该包络(2)的情况下,由预先给定的断层的位置和取向自动计算出用于所述成像磁共振测量的最小测量场的大小,其中,在磁共振断层图像上不出现或仅出现预先给定度量的卷褶。所述方法以简单的方式实现了每个所选择断层与最小测量场之间的最佳匹配。 | ||
申请公布号 | CN1435155A | 申请公布日期 | 2003.08.13 |
申请号 | CN03103525.6 | 申请日期 | 2003.01.28 |
申请人 | 西门子公司 | 发明人 | 尼尔斯·奥辛曼 |
分类号 | A61B5/055;G01R33/20 | 主分类号 | A61B5/055 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 侯宇;陶凤波 |
主权项 | 1.一种磁共振成像方法,该方法对受检体(1)的感兴趣区域进行成像磁共振测量,并显示出该感兴趣区域内预先给定位置和取向的断层的磁共振断层图像,其中,在进行成像磁共振测量之前,对受检体(1)的至少一部分进行二维或三维磁共振概貌摄影,其特征在于,依据该磁共振概貌摄影自动确定所述受检体(1)部分的包络(2),并在考虑该包络(2)的情况下,由预先给定断层的位置和取向自动计算出用于所述成像磁共振测量的最小测量场的大小,其中,在磁共振断层图像上不出现或仅出现预先给定度量的卷褶。 | ||
地址 | 联邦德国慕尼黑 |