发明名称 | 等离子体显示面板的前板的制造方法 | ||
摘要 | 一种制作等离子体显示面板的前板的改良方法,由变更步骤顺序和背面曝光技术,达到减少光掩模使用数目并提高曝光显影精确度的效果。所述方法:用网版印刷程序,或用第一光掩模对遮光层进行曝光显影程序,定义出遮光层图案,包括遮光带和透明电极的间隙图案;用该遮光层图案作光掩模,施行背面曝光、显影程序,再经蚀刻程序,在基板表面上形成多对透明电极;用第二光掩模进行另一次曝光、显影、蚀刻程序而在对应的透明电极上定义出多对金属电极。 | ||
申请公布号 | CN1118081C | 申请公布日期 | 2003.08.13 |
申请号 | CN99117725.8 | 申请日期 | 1999.08.12 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 宋文发;卢金钰;苏耀庆 |
分类号 | H01J9/02 | 主分类号 | H01J9/02 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄敏 |
主权项 | 1.一种等离子体显示面板的前板的制造方法,包括下列步骤:在一基板表面上形成一遮光层;利用一第一光掩模对该遮光层进行一曝光显影程序,用以定义出遮光层图案,其中包括遮光带图案和透明电极的间隙图案;形成一透明导电层,覆盖在该遮光层图案和该基板露出的表面上;涂布一第一光刻胶层于该透明导电层上;利用该遮光层图案当作光掩模,对该第一光刻胶层进行一背面曝光显影程序,用以定义图案而露出该透明导电层位于该遮光层图案表面上的部分;依序去除露出的该透明导电层和该第一光刻胶层,在该基板表面上留下多对透明电极;形成一多层构造金属层,覆盖在该透明电极和该遮光层图案上;在该多层构造金属层上涂布一第二光刻胶层;利用一第二光掩模对该第二光刻胶层进行另一曝光显影程序,用以定义出第二光刻胶层图案,从而盖住欲形成金属电极的区域;利用该第二光刻胶层图案当作掩模,蚀刻该多层构造金属层以形成多对金属电极,其分别位于对应的该多对透明电极上;以及去除该第二光刻胶层图案。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |