发明名称 | 防伪标记及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种防伪标志及其制造方法,其特征在于将特定的防伪图案镂空制成模板,并把它紧贴在记录材料的表面上,选用一定能量的特定重离子进行辐照,将防伪图案转换成稠密离子潜径迹分布存储在记录材料表层内;再经化学蚀刻能将受辐照表层原来的纹理改造成大小、深度、密度以及坑间距符合特定光学要求的锥形蚀坑过渡层,该过渡层具有减反增透的光学效果,存储在记录材料表层内的防伪图案能自然地显露出来。记录材料为入射离子在其中能产生可蚀刻潜径迹的表面平整光洁的绝缘材料。该防伪标志具有防伪力度大,易于识别,不易仿制的特点。并且材质本身的适用性更宽,制作成本相对经济。 | ||
申请公布号 | CN1118043C | 申请公布日期 | 2003.08.13 |
申请号 | CN98126388.7 | 申请日期 | 1998.12.29 |
申请人 | 中国原子能科学研究院 | 发明人 | 胡选文;王玉兰 |
分类号 | G09F3/00 | 主分类号 | G09F3/00 |
代理机构 | 核工业专利中心 | 代理人 | 毛一仙;高尚梅 |
主权项 | 1.一种防伪标记,其特征在于在记录材料的表层上,设有一过渡层,该过渡层由深度大于λ/2、密度为5×1010/cm2以上、孔径≤λ/2(λ为光波波长)以及间距在纳米量级的锥形蚀坑构成。 | ||
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